层叠体及其制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201880055998.1

申请日：

2018-08-13

公开(公告)号：

CN111050929B

公开(公告)日：

2020-04-21

发明(设计)人：

石关健二

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

B05D500

IPC分类号：

C03C1734 C08G65336 C09K318

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;李茂家

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-05-15	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B05D 5/00 申请日:20180813
2020-04-21	公开	公开
2022-07-22	授权	授权

共 50 条

[1]

层叠体及其制造方法 [P].

佐藤尽 ;

加纳满 .

中国专利 :CN113897594A ,2022-01-07

[2]

层叠体及其制造方法 [P].

堀池乔文 ;

佐藤尽 ;

高岛菜穗 .

中国专利 :CN110053339A ,2019-07-26

[3]

层叠体及其制造方法 [P].

伊藤友宏 ;

宫本知典 .

中国专利 :CN113631385A ,2021-11-09

[4]

层叠体及其制造方法 [P].

葛西辰昌 ;

幡中伸行 .

中国专利 :CN111684328B ,2020-09-18

[5]

层叠体及其制造方法 [P].

葛西辰昌 ;

幡中伸行 .

中国专利 :CN111684326B ,2020-09-18

[6]

层叠体及其制造方法 [P].

佐藤尽 ;

加纳满 .

中国专利 :CN107428125A ,2017-12-01

[7]

层叠体和层叠体的制造方法 [P].

关满 ;

原弘之 .

日本专利 :CN119058184A ,2024-12-03

[8]

薄膜及其制造方法、以及层叠体 [P].

佐佐田泰行 ;

田村显夫 .

中国专利 :CN115536878A ,2022-12-30

[9]

光学层叠体及其制造方法 [P].

西上由纪 ;

祖父江彰二 ;

田中贵景 .

日本专利 :CN111522088B ,2024-07-05

[10]

光学层叠体及其制造方法 [P].

藤长将司 ;

八寻智惠 ;

竹厚流 .

中国专利 :CN101923183B ,2010-12-22

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