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狭缝喷嘴以及基板处理装置
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN202023053851.2
申请日：
2020-12-17
公开(公告)号：
CN215390401U
公开(公告)日：
2022-01-04
发明(设计)人：
安陪裕滋
申请人：
申请人地址：
日本京都府京都市上京区堀川通寺之内上4丁目天神北町1番地之1(邮编:602-8585)
IPC主分类号：
B05C502
IPC分类号：
代理机构：
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205
代理人：
杨文娟;臧建明
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-01-04 | 授权 | 授权 |