光学元件用HfON保护膜的制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200710100392.9

申请日：

2007-06-11

公开(公告)号：

CN101058871A

公开(公告)日：

2007-10-24

发明(设计)人：

苏小平张树玉黎建明杨海王宏斌郝鹏余怀之刘伟

申请人：

申请人地址：

100088北京市新街口外大街2号

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

C23C1454 C23C1406

代理机构：

北京众合诚成知识产权代理有限公司

代理人：

朱印康

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-02-24	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回
2007-12-19	实质审查的生效	实质审查的生效
2007-10-24	公开	公开

共 50 条

[1]

光学元件用AlON保护膜的制备方法 [P].

张树玉 ;

苏小平 ;

杨海 ;

黎建明 ;

刘伟 ;

闫兰琴 ;

刘嘉禾 .

中国专利 :CN101349769A ,2009-01-21

[2]

红外光学窗口用HfON/BP增透保护膜及其制备方法 [P].

张树玉 ;

黎建明 ;

苏小平 ;

杨海 ;

郝鹏 ;

王宏斌 ;

余怀之 ;

刘伟 .

中国专利 :CN101231352A ,2008-07-30

[3]

表面保护膜、表面保护膜的制造方法、以及光学元件 [P].

片冈贤一 ;

春田裕宗 ;

天野立巳 .

中国专利 :CN105764689A ,2016-07-13

[4]

光学元件、光学复合元件及附保护膜的光学复合元件 [P].

本乡弘毅 ;

篠塚启 .

中国专利 :CN107076877A ,2017-08-18

[5]

具有可揭除保护膜的光学元件 [P].

S·富克斯 ;

J·布劳恩 ;

C·克伦茨 ;

B·古特尔莱恩 ;

D·迈尔 .

中国专利 :CN110658569B ,2020-01-07

[6]

光学用聚酯保护膜及其制备方法 [P].

高明俊 ;

韩承勋 ;

金吉中 .

韩国专利 :CN114132038B ,2025-04-25

[7]

光学用聚酯保护膜及其制备方法 [P].

高明俊 ;

韩承勋 ;

金吉中 .

中国专利 :CN114132038A ,2022-03-04

[8]

光学保护膜及其制备方法 [P].

楼佳铭 ;

牛建超 ;

李沛然 ;

孙攀 .

中国专利 :CN114517061A ,2022-05-20

[9]

保护膜用聚氨酯压敏胶的制备方法、保护膜的制备方法 [P].

徐延明 ;

都佩华 ;

吴保娟 ;

刘国敏 .

中国专利 :CN117511481A ,2024-02-06

[10]

一种包括增透保护膜的光学元件及其制备方法 [P].

李欢欢 ;

路淑娟 ;

曹波 ;

许宁 ;

王伦 ;

张云博 ;

贾孟 .

中国专利 :CN114019591A ,2022-02-08

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