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数控型等离子渗氮炉
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN202121717647.8
申请日：
2021-07-27
公开(公告)号：
CN215517600U
公开(公告)日：
2022-01-14
发明(设计)人：
林燕
刘欣杰
刘有为
申请人：
申请人地址：
430000 湖北省武汉市新洲区阳逻开发区青松村、余集林场等离子渗氮科技园8号厂房
IPC主分类号：
C23C836
IPC分类号：
代理机构：
武汉开元知识产权代理有限公司 42104
代理人：
潘杰
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-01-14 | 授权 | 授权 |