密闭式电化学抛光系统

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201120454840.7

申请日：

2011-11-16

公开(公告)号：

CN202323096U

公开(公告)日：

2012-07-11

发明(设计)人：

吕春林

申请人：

申请人地址：

518000 广东省深圳市龙华镇大浪华旺路和科达工业园

IPC主分类号：

C25F316

IPC分类号：

C25F700

代理机构：

深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217

代理人：

郭伟刚

法律状态：

专利实施许可合同备案的生效、变更及注销

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-07-03	专利实施许可合同备案的生效、变更及注销	专利实施许可合同备案的生效号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101607419157 IPC(主分类):C25F 3/16 专利申请号:2011204548407 专利号:ZL2011204548407 合同备案号:2013440000195 让与人:深圳市和科达电镀设备有限公司受让人:东莞市和科达工业专用设备有限公司实用新型名称:密闭式电化学抛光系统申请日:20111116 授权公告日:20120711 许可种类:独占许可备案日期:20130510
2012-07-11	授权	授权
2018-11-06	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C25F 3/16 申请日:20111116 授权公告日:20120711 终止日期:20171116

共 50 条

[1]

电化学抛光装置 [P].

庄维伟 ;

高永超 ;

程好 ;

杨淑平 ;

蔡渊 ;

贺昱旻 .

中国专利 :CN203174217U ,2013-09-04

[2]

超导带材电化学抛光系统 [P].

夏金成 ;

程鹏 ;

陆玲 ;

薛元 ;

周国山 ;

沈玉军 ;

熊旭明 ;

陈慧娟 ;

蔡渊 .

中国专利 :CN108950672A ,2018-12-07

[3]

电化学抛光装置 [P].

向城 ;

刁宇新 ;

叶知春 .

中国专利 :CN217839194U ,2022-11-18

[4]

电化学抛光装置 [P].

于丽 .

中国专利 :CN216738622U ,2022-06-14

[5]

支架电化学抛光装置 [P].

蔡蒙 ;

梅森 ;

沈丹鸿 .

中国专利 :CN223226221U ,2025-08-15

[6]

电化学抛光设备 [P].

杨宏超 ;

金一诺 ;

张怀东 ;

王坚 ;

王晖 .

中国专利 :CN105316755A ,2016-02-10

[7]

一种用于电化学抛光仪器的阴极工装和电化学抛光仪器 [P].

梁婷婷 ;

宋建华 .

中国专利 :CN221501297U ,2024-08-09

[8]

一种电化学抛光装置 [P].

邓辉 .

中国专利 :CN207276776U ,2018-04-27

[9]

微细导管的电化学抛光装置 [P].

蒋婉 ;

蔡苗 ;

何倩 .

中国专利 :CN205275771U ,2016-06-01

[10]

一种阴极结构、电化学抛光槽及电化学抛光设备 [P].

黄峰 ;

王湘鸣 ;

尹亚丽 ;

赵婧 ;

陈国明 ;

李雨 .

中国专利 :CN210287576U ,2020-04-10

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