一种助剂后处理系统

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201721924681.6

申请日：

2017-12-31

公开(公告)号：

CN207872134U

公开(公告)日：

2018-09-18

发明(设计)人：

叶民应浩金泽圣光

申请人：

申请人地址：

311228 浙江省杭州市萧山区农二场（浙江富丽达染整有限公司内）

IPC主分类号：

B01J1900

IPC分类号：

B01J400

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-09-18	授权	授权

共 50 条

[1]

一种助剂后处理系统的出料装置 [P].

叶民 ;

金泽 ;

应浩 ;

圣光 .

中国专利 :CN207714020U ,2018-08-10

[2]

一种助剂后处理系统的出料装置 [P].

朱一枫 .

中国专利 :CN210145972U ,2020-03-17

[3]

一种助剂后处理系统的出料装置 [P].

包承宽 ;

李勇 ;

时益发 ;

陈叶志 .

中国专利 :CN209597182U ,2019-11-08

[4]

一种后处理系统 [P].

孙婷 ;

吕志华 ;

张学敏 .

中国专利 :CN211598795U ,2020-09-29

[5]

一种后处理系统 [P].

彭玉玺 ;

崔曦文 .

中国专利 :CN221591084U ,2024-08-23

[6]

一种后处理系统 [P].

张红兵 ;

高万升 ;

王奋斗 ;

刘建生 .

中国专利 :CN205413034U ,2016-08-03

[7]

一种后处理框架和后处理系统 [P].

姜新东 ;

张克通 ;

瞿宁 .

中国专利 :CN210342068U ,2020-04-17

[8]

后处理系统 [P].

A·D·霍特 ;

M·S·波特 ;

M·K·辛格 ;

D·辛格 ;

冯黎明 .

中国专利 :CN204703989U ,2015-10-14

[9]

后处理系统 [P].

周丹 ;

陈琳 ;

陈冠宇 .

中国专利 :CN206071688U ,2017-04-05

[10]

后处理系统 [P].

尼基尔·S·科德古勒 ;

迈克尔·林奇 ;

赖安·罗伯特·韦尔奇 ;

帕特里克·西伦 .

中国专利 :CN204941658U ,2016-01-06

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