磁控管溅射

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN01810986.1

申请日：

2001-07-18

公开(公告)号：

CN1436361A

公开(公告)日：

2003-08-13

发明(设计)人：

史蒂文·罗伯特·伯吉斯卡斯藤·乔更斯

申请人：

申请人地址：

英国格温特

IPC主分类号：

H01J3734

IPC分类号：

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

王永刚

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2003-08-13	公开	公开
2008-11-26	授权	授权
2003-10-29	实质审查的生效	实质审查的生效
2021-08-03	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):H01J 37/34 申请日:20010718 授权公告日:20081126

共 50 条

[1]

磁控管溅射方法以及磁控管溅射装置 [P].

太田淳 ;

田口信一郎 ;

杉浦功 ;

谷典明 ;

新井真 ;

清田淳也 .

中国专利 :CN1965101A ,2007-05-16

[2]

磁控管以及磁控管溅射设备 [P].

李宰承 ;

西门瑄 ;

吴永泽 ;

刘云锺 .

中国专利 :CN103882394B ,2014-06-25

[3]

磁控管溅射阴极 [P].

J·克雷姆佩尔-赫泽 ;

A·吉施克 ;

U·许斯勒 ;

H·沃尔夫 .

中国专利 :CN1795531B ,2006-06-28

[4]

磁控管溅射装置 [P].

横山政秀 ;

早田博 .

中国专利 :CN1067118C ,1996-04-17

[5]

磁控管溅射源 [P].

B·海因茨 ;

M·杜布斯 ;

T·埃森哈默 ;

P·格吕宁费尔德 ;

W·哈亚格 ;

S·卡德莱克 ;

S·克拉斯尼策尔 .

中国专利 :CN1516888A ,2004-07-28

[6]

磁控管溅射设备 [P].

H.罗尔曼 ;

M.杜布斯 .

中国专利 :CN103109344A ,2013-05-15

[7]

溅射磁控管 [P].

安德里亚斯·鲁普 ;

曼弗雷德·鲁斯克 .

中国专利 :CN101203935A ,2008-06-18

[8]

磁控管溅射用磁体构件和阴极单元以及磁控管溅射装置 [P].

近藤隆彦 ;

堀崇展 ;

岩崎安邦 ;

米山信夫 .

中国专利 :CN101080510B ,2007-11-28

[9]

磁控管溅射电极与应用磁控管溅射电极的溅射装置 [P].

李尚浩 ;

小松孝 ;

中村肇 ;

新井真 ;

清田淳也 ;

谷典明 .

中国专利 :CN1978698B ,2007-06-13

[10]

磁控管阴极和包括这种磁控管阴极的磁控管溅射装置 [P].

瑟吉·Y·纳瓦拉 ;

尤里·N·托尔马彻夫 ;

马东俊 ;

金泰完 .

中国专利 :CN1525519A ,2004-09-01

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