离子注入设备及离子注入方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN02154068.3

申请日：

2002-12-10

公开(公告)号：

CN1427446A

公开(公告)日：

2003-07-02

发明(设计)人：

松本贵雄织平浩一中尾和浩中村光则

申请人：

申请人地址：

日本京都府

IPC主分类号：

H01J37317

IPC分类号：

H01L21265

代理机构：

北京市柳沈律师事务所

代理人：

魏晓刚;李晓舒

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2003-09-17	实质审查的生效	实质审查的生效
2003-07-02	公开	公开
2005-10-26	授权	授权
2022-11-18	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01J 37/317 申请日:20021210 授权公告日:20051026 终止日期:20211210
2006-05-31	专利申请权、专利权的转移专利权的转移	专利申请权、专利权的转移专利权的转移变更事项:专利权人变更前权利人:日新电机株式会社变更后权利人:日新意旺机械股份公司变更事项:地址变更前权利人:日本京都府变更后权利人:日本京都府登记生效日:20060421

共 50 条

[1]

离子注入设备及离子注入方法 [P].

松本贵雄 ;

织平浩一 ;

中尾和浩 ;

中村光则 .

中国专利 :CN100505140C ,2006-06-28

[2]

离子注入设备及离子注入方法 [P].

应力平 ;

严骏 ;

裴雷洪 .

中国专利 :CN103972011B ,2014-08-06

[3]

离子注入设备及离子注入方法 [P].

於成星 ;

刘小辉 ;

张和 ;

周静兰 ;

刘修忠 ;

沈保家 ;

李军辉 .

中国专利 :CN112820613B ,2021-05-18

[4]

离子注入方法和离子注入设备 [P].

滨本成显 ;

松本贵雄 .

中国专利 :CN1304165A ,2001-07-18

[5]

离子注入设备、离子注入装置 [P].

廖祥华 ;

贺金良 ;

余懍智 ;

杨树鑫 .

中国专利 :CN223552495U ,2025-11-14

[6]

离子注入设备和离子注入方法 [P].

黄奔 .

中国专利 :CN107346724A ,2017-11-14

[7]

离子注入设备和离子注入方法 [P].

李军华 ;

罗承先 .

中国专利 :CN121075894A ,2025-12-05

[8]

离子注入装置及离子注入方法 [P].

松下浩 ;

大北义明 .

中国专利 :CN108987225B ,2018-12-11

[9]

离子注入装置及离子注入方法 [P].

石桥和久 .

中国专利 :CN112349573A ,2021-02-09

[10]

离子注入装置及离子注入方法 [P].

山口干夫 ;

石桥和久 ;

工藤哲也 .

中国专利 :CN114914141A ,2022-08-16

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