相位差膜

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200580031124.5

申请日：

2005-09-07

公开(公告)号：

CN100432716C

公开(公告)日：

2007-08-22

发明(设计)人：

新田英昭松田裕生松村俊一

申请人：

申请人地址：

日本大阪府

IPC主分类号：

G02B530

IPC分类号：

G02F113363

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

孙秀武;李炳爱

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-10-17	实质审查的生效	实质审查的生效
2007-08-22	公开	公开
2012-11-14	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101347527790 IPC(主分类):G02B 5/30 专利号:ZL2005800311245 申请日:20050907 授权公告日:20081112 终止日期:20110907
2008-11-12	授权	授权

共 50 条

[1]

相位差膜 [P].

向井竜太郎 ;

高丽宽人 ;

赤尾信介 ;

安本孝广 ;

安保友博 .

中国专利 :CN110268293A ,2019-09-20

[2]

相位差膜 [P].

上平茂生 ;

师冈直之 ;

中山贵文 .

中国专利 :CN110799870B ,2020-02-14

[3]

相位差膜 [P].

本庄义人 .

中国专利 :CN105319634B ,2016-02-10

[4]

相位差膜 [P].

加藤贤治 ;

林胜茂 ;

加藤宣之 ;

江藤晴明 ;

仁藤祥一 .

中国专利 :CN101529284A ,2009-09-09

[5]

相位差膜 [P].

幡中伸行 ;

吉冈真之介 ;

小泽昭一 ;

葛西辰昌 .

中国专利 :CN106918862A ,2017-07-04

[6]

相位差膜 [P].

高木隆裕 .

中国专利 :CN101939673A ,2011-01-05

[7]

相位差膜及相位差膜的制造方法 [P].

浅田毅 ;

摺出寺浩成 ;

藤井健作 ;

安祐辅 ;

西冈宽哉 .

中国专利 :CN111868583B ,2020-10-30

[8]

相位差膜和相位差膜的制造方法 [P].

浅田毅 ;

摺出寺浩成 ;

藤井健作 ;

安祐辅 ;

西冈宽哉 .

中国专利 :CN111886524B ,2020-11-03

[9]

微相位差膜 [P].

吴荣聪 .

中国专利 :CN102681071A ,2012-09-19

[10]

相位差膜和具备该相位差膜的图像显示装置 [P].

大西隆司 ;

中昭夫 .

中国专利 :CN102939550A ,2013-02-20

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