申请人地址:
日本大阪府吹田市内本町3丁目34番14号
代理机构:
北京戈程知识产权代理有限公司 11314
共 50 条
[2]
二氧化氯产生装置及二氧化氯产生方法
[P].
奥山麻依子
论文数: 0 引用数: 0
h-index: 0
机构:
大幸药品株式会社
大幸药品株式会社
奥山麻依子
;
中岛正裕
论文数: 0 引用数: 0
h-index: 0
机构:
大幸药品株式会社
大幸药品株式会社
中岛正裕
.
日本专利 :CN120115082A ,2025-06-10 [4]
二氧化氯产生装置
[P].
辻本翔平
论文数: 0 引用数: 0
h-index: 0
机构:
大幸药品株式会社
大幸药品株式会社
辻本翔平
.
日本专利 :CN111099560B ,2025-04-08 [5]
二氧化氯产生装置
[P].
中国专利 :CN211595036U ,2020-09-29 [6]
二氧化氯产生装置
[P].
中国专利 :CN111099560A ,2020-05-05 [7]
二氧化氯产生装置
[P].
中国专利 :CN112672770A ,2021-04-16