用于电解抛光的电解液以及电解抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200710148276.4

申请日：

2007-09-04

公开(公告)号：

CN101168847A

公开(公告)日：

2008-04-30

发明(设计)人：

小寺章当间康铃木作斋藤孝行小畠严贵

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C25F316

IPC分类号：

H01L213063 H01L21465

代理机构：

永新专利商标代理有限公司

代理人：

王英

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-09-30	实质审查的生效	实质审查的生效
2008-04-30	公开	公开
2011-08-17	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101177305878 IPC(主分类):C25F 3/16 专利申请号:2007101482764 公开日:20080430

共 50 条

[1]

端子剖面电解抛光用电解液以及电解抛光方法 [P].

于延波 .

中国专利 :CN108193259A ,2018-06-22

[2]

电镀中电解抛光所用的电解液 [P].

张汝山 .

中国专利 :CN104278315A ,2015-01-14

[3]

电解抛光方法和电解抛光设备 [P].

史书汉 .

中国专利 :CN120330860A ,2025-07-18

[4]

钛或钛合金固体电解抛光的电解液、抛光介质和抛光方法 [P].

余越 ;

庞浩 ;

洪培萍 ;

龙伟光 ;

冯伟文 .

中国专利 :CN118166356B ,2024-12-10

[5]

钛或钛合金固体电解抛光的电解液、抛光介质和抛光方法 [P].

余越 ;

庞浩 ;

洪培萍 ;

龙伟光 ;

冯伟文 .

中国专利 :CN118166356A ,2024-06-11

[6]

用于电解抛光的电解质介质以及利用该介质进行电解抛光的方法 [P].

M·萨桑内达斯·吉佩拉 ;

G·里乌·佩德里克斯 ;

J·J·罗亚·罗维拉 .

:CN118382730A ,2024-07-23

[7]

用于钛的电解抛光的电解液组合物及其使用方法 [P].

J·古尔林 .

中国专利 :CN1358240A ,2002-07-10

[8]

一种降低电解抛光电解液温度的方法 [P].

张娜 ;

梁正伟 ;

张晓峰 ;

黄禄路 .

中国专利 :CN113882012A ,2022-01-04

[9]

电解抛光方法 [P].

松井嘉孝 ;

小助川広志 ;

小寺雅子 ;

宫下直人 .

中国专利 :CN1212651C ,2003-04-16

[10]

电抛光用电解液配方及电解方法 [P].

张光宇 .

中国专利 :CN101603197A ,2009-12-16

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