苯并咪唑化合物的合成中间体及其制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN00811986.4

申请日：

2000-06-27

公开(公告)号：

CN1371360A

公开(公告)日：

2002-09-25

发明(设计)人：

贵志直文中村嘉孝阿边成己竹林絜矩

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C07C27128

IPC分类号：

C07C26906 C07D27734 C07D41712 A61K31427 A61P310

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

邰红

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2002-09-25	公开	公开
2006-04-05	授权	授权
2002-12-04	实质审查的生效	实质审查的生效
2002-09-04	实质审查的生效	实质审查的生效
2014-08-13	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101584490950 IPC(主分类):C07C 271/28 专利号:ZL008119864 申请日:20000627 授权公告日:20060405 终止日期:20130627

共 50 条

[1]

笨并咪唑化合物的合成中间体及其制造方法 [P].

贵志直文 ;

中村嘉孝 ;

阿边成己 ;

竹林絜矩 .

中国专利 :CN1611489A ,2005-05-04

[2]

苯并咪唑类杂环化合物及其中间体的合成方法 [P].

马大为 ;

邹本立 .

中国专利 :CN1970544A ,2007-05-30

[3]

合成苯并咪唑化合物的方法 [P].

A·古斯塔夫松 .

中国专利 :CN101230057B ,2008-07-30

[4]

合成苯并咪唑化合物的方法 [P].

A·古斯塔夫松 .

中国专利 :CN1705656A ,2005-12-07

[5]

苯并咪唑化合物 [P].

宫泽修平 ;

篠田昌信 ;

川原哲也 ;

渡边信久 ;

原田均 ;

饭田大介 ;

寺内广毅 ;

永川纯一 ;

藤崎秀明 ;

窪田笃彦 ;

上田正人 .

中国专利 :CN101160306B ,2008-04-09

[6]

具有光学活性的咪唑化合物的制造方法、其合成中间体及其制造方法 [P].

川崎和幸 ;

小林治仁 ;

江原秀二 ;

佐藤英昭 .

中国专利 :CN1133623C ,2000-04-19

[7]

制备化合物的方法及其合成中间体 [P].

S·斯皮纳利 ;

V·利维 .

中国专利 :CN106187882A ,2016-12-07

[8]

制备化合物的方法及其合成中间体 [P].

S·斯皮纳利 ;

V·利维 .

中国专利 :CN104193676A ,2014-12-10

[9]

噁唑化合物的合成中间体及其制备方法 [P].

山本明弘 ;

新滨光一 ;

藤田展久 ;

安艺晋治 ;

小笠原新 ;

宇积尚登 .

中国专利 :CN102725269A ,2012-10-10

[10]

用于制备苯并咪唑化合物的方法 [P].

J·德马泰 ;

S·沙基亚 ;

A·D·皮斯科皮欧 ;

B·P·哈赫 ;

M·C·埃文斯 ;

J·G·福特 ;

S·M·波因顿 ;

K·佩特斯 ;

T·J·利利 ;

J·伦纳德 .

中国专利 :CN101248060A ,2008-08-20

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