一种酸性蚀刻电解再生液回用的方法

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专利类型
发明
申请号
CN202010651932.8
申请日
2020-07-08
公开(公告)号
CN113913829A
公开(公告)日
2022-01-11
发明(设计)人
黄明安 王璇 刘军 李光辉
申请人
申请人地址
526236 广东省肇庆市四会市下茆镇电子产业园2号
IPC主分类号
C23F146
IPC分类号
C25C112
代理机构
代理人
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
再生酸性蚀刻液、酸性蚀刻液及酸性蚀刻液再生方法 [P]. 
张伟奇 ;
李再强 ;
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[2]
酸性蚀刻液再生回用系统 [P]. 
李再强 ;
黄文涛 ;
张伟奇 .
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[3]
电路板酸性蚀刻液电解再生盐酸的方法 [P]. 
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[4]
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尹雄威 ;
付红串 ;
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[5]
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雷欢 ;
罗婷婷 ;
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[6]
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[7]
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[8]
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[9]
同时电解再生酸性蚀刻液和微蚀液的方法 [P]. 
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[10]
酸性蚀刻液再生电解槽 [P]. 
李建光 ;
崔磊 ;
王丹 ;
钟景 ;
柳建和 ;
张岱辉 .
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