后处理装置、印刷系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710550764.1

申请日：

2017-07-07

公开(公告)号：

CN107618925A

公开(公告)日：

2018-01-23

发明(设计)人：

儿玉秀俊足立裕尚原田裕太朗

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

B65H3110

IPC分类号：

代理机构：

北京康信知识产权代理有限责任公司 11240

代理人：

张永明;玉昌峰

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-01-07	授权	授权
2018-02-16	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B65H 31/10 申请日:20170707
2018-01-23	公开	公开

共 50 条

[1]

后处理装置及印刷系统 [P].

坂上将太 ;

天野祐作 ;

圆谷悠 ;

百瀬功 .

中国专利 :CN112707224B ,2021-04-27

[2]

印刷后处理装置 [P].

丁旭光 .

中国专利 :CN203920010U ,2014-11-05

[3]

一种印刷后处理装置 [P].

何杨帆 ;

李宝清 ;

吴宝石 ;

吴振江 ;

吴雪东 .

中国专利 :CN217435296U ,2022-09-16

[4]

一种印刷后处理装置 [P].

董晓丽 ;

车明新 ;

辛忠权 ;

张宇 ;

赵伟 ;

汪丽 .

中国专利 :CN212708545U ,2021-03-16

[5]

中间单元、后处理装置以及印刷装置 [P].

原田裕太朗 ;

上野幸平 ;

室町明伸 ;

儿玉秀俊 ;

大桥一顺 ;

古御堂刚 ;

足立裕尚 .

中国专利 :CN107618277B ,2018-01-23

[6]

中间单元、后处理装置以及印刷装置 [P].

儿玉秀俊 ;

大桥一顺 ;

足立裕尚 ;

室町明伸 .

中国专利 :CN107618923B ,2018-01-23

[7]

中间单元、后处理装置以及印刷装置 [P].

原田裕太朗 ;

上野幸平 ;

室町明伸 ;

儿玉秀俊 ;

大桥一顺 ;

古御堂刚 ;

足立裕尚 .

中国专利 :CN110525060B ,2019-12-03

[8]

后处理装置、记录系统 [P].

原俊 ;

川上和久 ;

圆谷悠 .

中国专利 :CN114644251A ,2022-06-21

[9]

纸张后处理装置以及纸张后处理系统 [P].

能宗辉光 ;

颕川圭介 ;

上野康则 ;

白﨑晴一 ;

冈田武彦 ;

髙野悠介 ;

西村拓哉 .

日本专利 :CN117687279A ,2024-03-12

[10]

后处理装置和后处理方法 [P].

张永昌 ;

王智鸣 ;

郑佳韵 ;

陈奇宏 ;

林凯钧 ;

杨志文 ;

彭玄文 .

中国专利 :CN111147849B ,2020-05-12

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