透镜阵列、透镜阵列的制造方法及光学元件的制造方法

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专利类型
发明
申请号
CN201380017505.2
申请日
2013-03-20
公开(公告)号
CN104204865B
公开(公告)日
2014-12-10
发明(设计)人
藤本章弘 新井启司
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
G02B300
IPC分类号
G02B302 G02B304 G02B308 G02B518
代理机构
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人
张涛
法律状态
专利权的终止
国省代码
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共 50 条
[1]
透镜阵列的制造方法、透镜阵列及其光学元件阵列装置 [P]. 
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葛祖荣 ;
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[2]
透镜阵列、摄像元件以及透镜阵列的制造方法 [P]. 
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中国专利 :CN112313546A ,2021-02-02
[3]
透镜阵列制造装置及透镜阵列制造方法 [P]. 
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安田晋 .
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[4]
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[5]
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[6]
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[7]
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[8]
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[9]
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[10]
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