后处理系统中的异步还原剂插入件

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610803082.2

申请日：

2016-09-05

公开(公告)号：

CN106523097A

公开(公告)日：

2017-03-22

发明(设计)人：

N·卡莱德

申请人：

申请人地址：

美国印第安纳州

IPC主分类号：

F01N328

IPC分类号：

F01N320

代理机构：

上海一平知识产权代理有限公司 31266

代理人：

须一平;居瓅

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-03-22	公开	公开
2019-10-01	授权	授权
2017-05-31	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101723781937 IPC(主分类):F01N 3/28 专利申请号:2016108030822 申请日:20160905

共 50 条

[1]

还原剂导入组件、后处理系统和控制电路 [P].

普拉卡什·S·皮拉尼 ;

尤格什·V·比拉里 ;

萨乌拉博·古普塔 ;

古尼贾恩·弗马 ;

维贾伊·V·阿加勒 ;

德瓦库马尔·拉詹德拉恩 .

中国专利 :CN205445745U ,2016-08-10

[2]

用于排气后处理系统的还原剂输送系统 [P].

M·米塔帕利 ;

伊诺克·南度鲁 ;

塞缪尔·约翰逊 ;

赖安·M·约翰逊 ;

卡尔提基·杰戈塔普 ;

维纳伊·库马尔·乔希 ;

艾西瓦娅·普拉文·乔希 .

中国专利 :CN115053053A ,2022-09-13

[3]

还原剂储存容器和排气后处理系统 [P].

赵怀志 ;

王波 ;

李治国 ;

户俊立 ;

李玮琳 ;

郭子旭 .

中国专利 :CN207999303U ,2018-10-23

[4]

用于将还原剂混合在流经其中的废气中的后处理系统 [P].

肯·赫梅尔 ;

约翰·林斯塔德 ;

阿塔尔·S·阿比扬卡尔 .

中国专利 :CN111212963B ,2020-05-29

[5]

用于将还原剂混合在流经其中的废气中的后处理系统 [P].

肯·赫梅尔 ;

约翰·林斯塔德 ;

阿塔尔·S·阿比扬卡尔 .

中国专利 :CN114738086A ,2022-07-12

[6]

用于确定后处理系统中还原剂沉积物的量的系统和方法 [P].

阿努拉格·库姆拉 ;

龚谨谦 ;

阿伦·库玛尔·达萨里 .

中国专利 :CN113614341A ,2021-11-05

[7]

用于确定后处理系统中还原剂沉积物的量的系统和方法 [P].

阿努拉格·库姆拉 ;

龚谨谦 ;

阿伦·库玛尔·达萨里 .

美国专利 :CN113614341B ,2024-05-07

[8]

用于在废气后处理系统中改善还原剂的水解的方法 [P].

A·多林 .

中国专利 :CN101462023B ,2009-06-24

[9]

后处理系统的废气和还原剂混合器 [P].

刘志立 ;

A·卡扬卡尔 ;

N·施密特 ;

A·曼南努尔 .

中国专利 :CN114761676A ,2022-07-15

[10]

监控排气后处理系统中的还原剂喷射系统的方法和装置 [P].

Y-Y·王 ;

C·E·索尔布里格 ;

S·P·列维乔基 .

中国专利 :CN102042065A ,2011-05-04

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