掩模框架组件、沉积装置及有机发光显示装置的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510194081.8

申请日：

2015-04-22

公开(公告)号：

CN106158697A

公开(公告)日：

2016-11-23

发明(设计)人：

郑茶姬

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

H01L5156

代理机构：

北京德琦知识产权代理有限公司 11018

代理人：

齐葵;周艳玲

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-11-23	公开	公开
2017-11-03	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20150422
2020-07-28	授权	授权

共 50 条

[1]

掩模框架组件、其制造方法及有机发光显示装置制造方法 [P].

韩政洹 .

中国专利 :CN106148890A ,2016-11-23

[2]

掩模框架组件、其制造方法及有机发光显示装置制造方法 [P].

韩政洹 .

中国专利 :CN106207010B ,2016-12-07

[3]

有机层沉积组件、沉积装置及有机发光显示装置制造方法 [P].

李东规 ;

金茂显 ;

李丙国 .

中国专利 :CN105695935B ,2016-06-22

[4]

掩模框架组件和制造方法及有机发光显示装置的制造方法 [P].

韩政洹 .

中国专利 :CN105274471B ,2016-01-27

[5]

掩模框架组件及使用其制造有机发光显示装置的方法 [P].

李荣光 ;

李相允 ;

洪宰敏 .

中国专利 :CN113497214A ,2021-10-12

[6]

掩模框架组件及显示装置的制造方法 [P].

金仁培 ;

文敏浩 ;

任星淳 ;

黄圭焕 .

中国专利 :CN109309175A ,2019-02-05

[7]

沉积装置以及使用其的有机发光显示装置的制造方法 [P].

白大源 .

中国专利 :CN103726030B ,2014-04-16

[8]

有机发光显示装置和用于制造该有机发光显示装置的薄膜沉积掩模 [P].

成德庆 ;

朴址昊 ;

郑盛夫 .

中国专利 :CN105679793B ,2016-06-15

[9]

掩模框架组件以及使用该组件制作的有机发光显示装置 [P].

姜敞皓 .

中国专利 :CN100484348C ,2006-01-18

[10]

沉积装置、有机发光显示装置及其制造方法 [P].

洪兴其 .

中国专利 :CN104167510B ,2014-11-26

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