离子注入装置及离子注入方法

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专利类型
发明
申请号
CN202110841079.0
申请日
2021-07-23
公开(公告)号
CN113571402A
公开(公告)日
2021-10-29
发明(设计)人
黄家明
申请人
申请人地址
510000 广东省广州市黄埔区中新知识城凤凰五路28号
IPC主分类号
H01J37317
IPC分类号
H01J37147
代理机构
上海思捷知识产权代理有限公司 31295
代理人
罗磊
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
离子注入装置及离子注入方法 [P]. 
黄家明 .
中国专利 :CN113571402B ,2024-02-09
[2]
离子注入设备、离子注入装置 [P]. 
廖祥华 ;
贺金良 ;
余懍智 ;
杨树鑫 .
中国专利 :CN223552495U ,2025-11-14
[3]
离子注入方法及离子注入装置 [P]. 
二宫史郎 ;
越智昭浩 ;
木村靖彦 ;
冈本泰治 ;
弓山敏男 .
中国专利 :CN102723252A ,2012-10-10
[4]
离子注入装置及离子注入方法 [P]. 
松下浩 ;
大北义明 .
中国专利 :CN108987225B ,2018-12-11
[5]
离子注入装置及离子注入方法 [P]. 
石桥和久 .
中国专利 :CN112349573A ,2021-02-09
[6]
离子注入装置及离子注入方法 [P]. 
山口干夫 ;
石桥和久 ;
工藤哲也 .
中国专利 :CN114914141A ,2022-08-16
[7]
离子注入装置及离子注入方法 [P]. 
椛泽光昭 ;
石川雅基 ;
上野勇介 .
中国专利 :CN105023821B ,2015-11-04
[8]
离子注入装置及离子注入方法 [P]. 
河津翔 ;
井门德安 .
中国专利 :CN110137066B ,2019-08-16
[9]
离子注入装置及离子注入方法 [P]. 
月原光国 .
中国专利 :CN115020175A ,2022-09-06
[10]
离子注入装置及离子注入方法 [P]. 
筱塚正光 .
日本专利 :CN120266251A ,2025-07-04