基板处理方法、存储介质以及基板处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110983823.0

申请日：

2021-08-25

公开(公告)号：

CN114141657A

公开(公告)日：

2022-03-04

发明(设计)人：

野田朋宏武内亮太加藤宽三高柳康治

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

B05D300 B05C914 B05C1302 G03F730

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-03-04	公开	公开

共 50 条

[1]

基板处理方法、基板处理装置以及存储介质 [P].

铃木启之 ;

佐佐木佑美 .

日本专利 :CN119422228A ,2025-02-11

[2]

基板处理装置、基板处理方法以及存储介质 [P].

加藤宽三 .

中国专利 :CN114616056A ,2022-06-10

[3]

基板处理装置、基板处理方法以及存储介质 [P].

大野宏树 ;

稻田尊士 ;

河野央 .

中国专利 :CN109686681A ,2019-04-26

[4]

基板处理装置、基板处理方法以及存储介质 [P].

伊藤规宏 ;

东岛治郎 ;

绪方信博 ;

大塚贵久 ;

道木裕一 ;

桥本佑介 ;

相浦一博 ;

后藤大辅 .

中国专利 :CN107851572B ,2018-03-27

[5]

基板处理装置、基板处理方法以及存储介质 [P].

大村和久 .

日本专利 :CN120977899A ,2025-11-18

[6]

基板处理装置、基板处理方法以及存储介质 [P].

丸本洋 .

中国专利 :CN107230653B ,2017-10-03

[7]

基板处理装置、基板处理方法以及存储介质 [P].

畠山真一 ;

川上浩平 .

中国专利 :CN114843206A ,2022-08-02

[8]

基板处理装置、基板处理方法以及存储介质 [P].

福井祥吾 ;

内田范臣 ;

小原隆宪 ;

篠原英隆 ;

锦户修一 ;

浦智仁 ;

元山祐弥 .

中国专利 :CN108335996A ,2018-07-27

[9]

基板处理装置、基板处理方法以及存储介质 [P].

大野宏树 ;

稻田尊士 ;

河野央 .

日本专利 :CN109686681B ,2024-03-01

[10]

基板处理装置、基板处理方法以及存储介质 [P].

宫原理 .

日本专利 :CN109390252B ,2024-02-06

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