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一种具有导流机构的光学晶体拉晶炉
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN202121305544.0
申请日：
2021-06-09
公开(公告)号：
CN215163298U
公开(公告)日：
2021-12-14
发明(设计)人：
吴帅波
韩春霞
申请人：
申请人地址：
072450 河北省保定市望都县朝阳路南侧浙商·和谷国际智能港19#楼
IPC主分类号：
C30B1500
IPC分类号：
C30B2906
代理机构：
代理人：
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-12-14 | 授权 | 授权 |