大尺寸红外光学元件低应力保护增透薄膜的制备方法

被引:0
申请号
CN202210417379.0
申请日
2022-04-20
公开(公告)号
CN114774847A
公开(公告)日
2022-07-22
发明(设计)人
李洪涛 张天行 熊涛 何光宗 薛俊 王航 余雪宁
申请人
申请人地址
430223 湖北省武汉市江夏区庙山开发区明泽街9号
IPC主分类号
C23C1402
IPC分类号
C23C1406 C23C1416 C23C1418 C23C1430 C23C1626 C23C1650 G02B1115 G02B114
代理机构
湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102
代理人
许美红;李艳景
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
大尺寸红外光学元件低应力保护增透薄膜的制备方法 [P]. 
李洪涛 ;
张天行 ;
熊涛 ;
何光宗 ;
薛俊 ;
王航 ;
余雪宁 .
中国专利 :CN114774847B ,2024-01-23
[2]
一种热辐射可控的红外光学窗口薄膜设计方法 [P]. 
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[3]
红外光学窗口用HfON/BP增透保护膜及其制备方法 [P]. 
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苏小平 ;
杨海 ;
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[4]
光学增透薄膜及其制备方法 [P]. 
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钟明霏 ;
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李想 ;
刘嘉翔 ;
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[5]
一种红外光学用增透保护膜及其制备方法 [P]. 
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[6]
红外光学窗口用DLC/BP增透保护膜及其制备方法 [P]. 
杨海 ;
张树玉 ;
苏小平 ;
黎建明 ;
王宏斌 ;
郝鹏 ;
余怀之 ;
刘伟 .
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[7]
大尺寸红外光学用锗窗口材料的制备装置及用其制备大尺寸红外光学用锗窗口材料的方法 [P]. 
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[8]
红外光学薄膜保护膜及其制备方法 [P]. 
李刚正 ;
孙英会 .
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[9]
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陈佳佳 ;
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吴玉堂 .
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[10]
一种超低应力的8-12μm红外宽带增透薄膜及其制备方法 [P]. 
陈佳佳 ;
李全民 ;
朱敏 ;
吴玉堂 .
中国专利 :CN114488361B ,2024-02-09