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一种光刻机框架及光刻机
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201811642844.0
申请日：
2018-12-29
公开(公告)号：
CN111381450A
公开(公告)日：
2020-07-07
发明(设计)人：
张瑞平
杨玉杰
申请人：
申请人地址：
201203 上海市浦东新区张东路1525号
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
代理机构：
上海思捷知识产权代理有限公司 31295
代理人：
王宏婧
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-07-07 | 公开 | 公开 |
| 2020-07-31 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20181229 |