曝光装置、曝光方法以及器件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200480005148.9

申请日：

2004-02-26

公开(公告)号：

CN1754250A

公开(公告)日：

2006-03-29

发明(设计)人：

长坂博之大和壮一西井康文

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

H01L21027

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

王永刚

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-11-12	授权	授权
2021-02-12	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/027 申请日:20040226 授权公告日:20081112 终止日期:20200226
2006-05-24	实质审查的生效	实质审查的生效
2006-03-29	公开	公开

共 50 条

[1]

曝光装置、曝光方法以及器件制造方法 [P].

长坂博之 .

中国专利 :CN101354540A ,2009-01-28

[2]

曝光装置、曝光方法以及器件制造方法 [P].

长坂博之 .

中国专利 :CN106873316A ,2017-06-20

[3]

曝光装置以及器件制造方法 [P].

长坂博之 .

中国专利 :CN102495540B ,2012-06-13

[4]

曝光方法以及器件制造方法 [P].

长坂博之 .

中国专利 :CN104678715B ,2015-06-03

[5]

曝光装置、曝光方法以及器件制造方法 [P].

水谷刚之 .

中国专利 :CN100539019C ,2007-08-15

[6]

曝光装置、曝光方法以及器件制造方法 [P].

冈田尚也 .

中国专利 :CN101069265A ,2007-11-07

[7]

曝光方法、曝光装置以及器件制造方法 [P].

蛭川茂 .

中国专利 :CN101614966A ,2009-12-30

[8]

曝光装置、曝光方法以及器件制造方法 [P].

西永寿 ;

引间郁雄 ;

丰田光纪 ;

中川正弘 ;

萩原恒幸 ;

水野恭志 ;

北尚宪 ;

谷津修 ;

江村望 .

中国专利 :CN100490064C ,2006-11-22

[9]

曝光方法、曝光装置以及器件制造方法 [P].

蛭川茂 .

中国专利 :CN100541717C ,2006-06-28

[10]

曝光装置和曝光方法以及器件制造方法 [P].

安田雅彦 ;

正田隆博 ;

金谷有步 ;

长山匡 ;

白石健一 .

中国专利 :CN102360167B ,2012-02-22

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