用于DMD数字光刻系统的匀光元件及其设计方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201711171865.4
申请日
2017-11-22
公开(公告)号
CN107942520B
公开(公告)日
2018-04-20
发明(设计)人
刘华 刘中元 李乾坤 李金环
申请人
申请人地址
130024 吉林省长春市南关区人民大街5268号
IPC主分类号
G02B2709
IPC分类号
G03F720
代理机构
长春市吉利专利事务所(普通合伙) 22206
代理人
李晓莉
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
匀光元件及其制造方法 [P]. 
杨良信 ;
王燚言 ;
隋磊 ;
田克汉 .
中国专利 :CN119493195A ,2025-02-21
[2]
匀光元件及其制造方法 [P]. 
王燚言 ;
杨良信 ;
隋磊 ;
田克汉 .
中国专利 :CN119493267A ,2025-02-21
[3]
匀光元件及其制造方法 [P]. 
杨良信 ;
王燚言 ;
隋磊 ;
田克汉 .
中国专利 :CN119493195B ,2025-11-11
[4]
匀光元件及其制造方法和系统以及电子设备 [P]. 
楼歆晔 ;
孟玉凰 ;
林涛 ;
黄河 .
中国专利 :CN112394524A ,2021-02-23
[5]
一种基于DMD数字光刻的曲面复眼透镜及其制备方法 [P]. 
蒋文波 ;
王画然 .
中国专利 :CN114355489A ,2022-04-15
[6]
匀光元件及其随机规则制造方法和系统以及电子设备 [P]. 
孟玉凰 ;
楼歆晔 ;
林涛 ;
黄河 .
中国专利 :CN112394523A ,2021-02-23
[7]
微透镜阵列及其制作方法、匀光元件和成像模组 [P]. 
冯坤亮 ;
丁细超 ;
鞠晓山 ;
李宗政 .
中国专利 :CN112666639A ,2021-04-16
[8]
增维信息获取装置及其匀光元件和应用 [P]. 
楼歆晔 ;
孟玉凰 ;
林涛 ;
黄河 .
中国专利 :CN112394525A ,2021-02-23
[9]
用于匀光的超透镜阵列及其设计方法 [P]. 
程佳平 ;
郝成龙 ;
谭凤泽 ;
朱健 .
中国专利 :CN118884583A ,2024-11-01
[10]
匀光元件和匀光系统 [P]. 
黄哲 ;
程治明 ;
明玉生 ;
王聪 ;
贾敏 ;
陈远 .
中国专利 :CN220381306U ,2024-01-23