形成多层涂膜的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201580074849.6

申请日：

2015-12-10

公开(公告)号：

CN107206417B

公开(公告)日：

2017-09-26

发明(设计)人：

高山大辅殿村浩规松岛直人中原周一

申请人：

申请人地址：

日本兵库县

IPC主分类号：

B05D136

IPC分类号：

B05D724 B32B2718

代理机构：

北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204

代理人：

王达佐;洪欣

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-03-09	授权	授权
2017-10-27	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B05D 1/36 申请日:20151210
2017-09-26	公开	公开

共 50 条

[1]

形成多层涂膜的方法 [P].

高山大辅 ;

殿村浩规 ;

松岛直人 ;

中原周一 .

中国专利 :CN107206416B ,2017-09-26

[2]

形成多层涂膜的方法 [P].

岩田直之 ;

山下文男 ;

石仓稔 ;

中薮贵司 ;

小西和司 ;

森田锐昭 ;

小畑政示 .

中国专利 :CN104661763B ,2015-05-27

[3]

多层涂膜形成方法 [P].

冈美穗 ;

清水诚 ;

高以良庆树 ;

堀内学 ;

濑川大介 .

中国专利 :CN109070131B ,2018-12-21

[4]

多层涂膜形成方法 [P].

冈美穗 ;

清水诚 ;

高以良庆树 ;

堀内学 ;

濑川大介 .

中国专利 :CN108883432A ,2018-11-23

[5]

形成多层涂膜的方法 [P].

松原一辉 ;

松浦良成 ;

小野贵之 ;

殿村浩规 ;

长谷真子 ;

三石浩嗣 ;

安保启司 .

中国专利 :CN110465468B ,2019-11-19

[6]

形成多层涂膜的方法 [P].

金子敏雄 ;

冈本聪 ;

蓬原正伸 ;

道井诚 ;

冈田荣作 ;

仁藤丈裕 .

中国专利 :CN101218313B ,2008-07-09

[7]

多层涂膜的形成方法 [P].

川端贵之 ;

山崎明 ;

长谷真子 ;

安保启司 ;

成田义则 .

中国专利 :CN108686913A ,2018-10-23

[8]

用于形成多层涂膜的方法 [P].

北园和明 ;

北川博视 .

中国专利 :CN103459048B ,2013-12-18

[9]

多层涂膜的形成方法 [P].

稻积孝哲 ;

藤本宏美 ;

入江贵史 .

中国专利 :CN107969118A ,2018-04-27

[10]

用于形成多层涂膜的方法 [P].

安达尚人 ;

北园和明 ;

中原周一 .

中国专利 :CN102159332A ,2011-08-17

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