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对相衬X射线成像和/或暗场X射线成像中的X射线入射条纹图样的X射线探测
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201880003957.8
申请日：
2018-08-13
公开(公告)号：
CN109863424A
公开(公告)日：
2019-06-07
发明(设计)人：
R·斯特德曼布克
E·勒斯尔
W·吕腾
申请人：
申请人地址：
荷兰艾恩德霍芬
IPC主分类号：
G01T120
IPC分类号：
代理机构：
永新专利商标代理有限公司 72002
代理人：
孟杰雄;王英
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-05-12 | 授权 | 授权 |
| 2019-06-07 | 公开 | 公开 |
| 2019-07-02 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G01T 1/20 申请日:20180813 |