聚乙烯醇系薄膜卷及其制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980051469.9

申请日：

2019-09-03

公开(公告)号：

CN112533848B

公开(公告)日：

2021-03-19

发明(设计)人：

出口锐河田公司吉河裕二市桥一辉高木悠磨

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

B65H1828

IPC分类号：

B65H1826 B65H7500 C08J518 G02B530

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;李茂家

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2023-02-17	授权	授权
2021-04-06	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B65H 18/28 申请日:20190903
2021-03-19	公开	公开

共 50 条

[1]

聚乙烯醇系薄膜以及聚乙烯醇系薄膜的制造方法 [P].

中岛宽幸 .

中国专利 :CN101253230A ,2008-08-27

[2]

聚乙烯醇系薄膜、偏光膜、偏光板及聚乙烯醇系薄膜的制造方法 [P].

清水俊宏 ;

北村秀一 ;

寺本裕一 .

中国专利 :CN110462468B ,2019-11-15

[3]

聚乙烯醇系薄膜、偏光膜、偏光板及聚乙烯醇系薄膜的制造方法 [P].

清水俊宏 ;

北村秀一 ;

寺本裕一 .

中国专利 :CN110431458A ,2019-11-08

[4]

聚乙烯醇系薄膜、聚乙烯醇系薄膜的制造方法和偏光膜 [P].

寺本裕一 ;

早川诚一郎 .

中国专利 :CN107614578A ,2018-01-19

[5]

聚乙烯醇系薄膜、聚乙烯醇系薄膜的制造方法和偏光膜 [P].

方山智广 ;

枝泽敏行 ;

早川诚一郎 .

中国专利 :CN107405806A ,2017-11-28

[6]

聚乙烯醇系薄膜、聚乙烯醇系薄膜的制造方法和偏光膜 [P].

寺本裕一 ;

早川诚一郎 .

日本专利 :CN119286173A ,2025-01-10

[7]

聚乙烯醇系薄膜 [P].

林哲史 .

中国专利 :CN102816339B ,2012-12-12

[8]

聚乙烯醇系薄膜 [P].

林哲史 .

中国专利 :CN101778888A ,2010-07-14

[9]

聚乙烯醇系薄膜、偏光膜及偏光板、以及聚乙烯醇系薄膜的制造方法 [P].

清水俊宏 ;

北村秀一 ;

寺本裕一 .

中国专利 :CN110392852B ,2019-10-29

[10]

聚乙烯醇系树脂薄膜及该聚乙烯醇系树脂薄膜的制造方法 [P].

南川善则 ;

德弘秀作 .

日本专利 :CN120383755A ,2025-07-29

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