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低真空系统持续充入工作气体时的动态压力精确控制系统
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202010407037.1
申请日
:
2020-05-14
公开(公告)号
:
CN111594446A
公开(公告)日
:
2020-08-28
发明(设计)人
:
王晓伟
阚存东
李虎
申请人
:
申请人地址
:
201822 上海市嘉定区叶城路1288号6幢J1072室
IPC主分类号
:
F04C2824
IPC分类号
:
F04C2502
代理机构
:
北京卫平智业专利代理事务所(普通合伙) 11392
代理人
:
张新利;谢建玲
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-08-28
公开
公开
2020-09-22
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):F04C 28/24 申请日:20200514
共 50 条
[1]
低真空系统持续充入工作气体时的动态压力精确控制系统
[P].
王晓伟
论文数:
0
引用数:
0
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0
王晓伟
;
阚存东
论文数:
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0
阚存东
;
李虎
论文数:
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李虎
.
中国专利
:CN212454830U
,2021-02-02
[2]
真空压力控制系统
[P].
渡边雅之
论文数:
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渡边雅之
;
宫原诚
论文数:
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宫原诚
;
梅泽俊祐
论文数:
0
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0
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0
梅泽俊祐
.
中国专利
:CN101320275A
,2008-12-10
[3]
真空压力控制系统
[P].
早濑雄太郎
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
CKD株式会社
CKD株式会社
早濑雄太郎
.
日本专利
:CN113062989B
,2025-08-05
[4]
真空压力控制系统
[P].
早濑雄太郎
论文数:
0
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0
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0
早濑雄太郎
.
中国专利
:CN113062989A
,2021-07-02
[5]
反应腔室的压力控制系统及压力控制方法
[P].
孙朋涛
论文数:
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孙朋涛
;
耿丹
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耿丹
;
桂晓波
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桂晓波
;
郑建宇
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郑建宇
;
李补忠
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李补忠
.
中国专利
:CN110538620B
,2019-12-06
[6]
低温低压气体压力精确控制系统及方法
[P].
武越
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武越
;
王宇辰
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王宇辰
;
刘金龙
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刘金龙
;
李培印
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李培印
;
魏茜
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魏茜
;
王晶
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王晶
.
中国专利
:CN110304284A
,2019-10-08
[7]
真空压力控制系统
[P].
丰田哲也
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丰田哲也
.
中国专利
:CN100580601C
,2007-05-23
[8]
一种防爆的气体温度压力精确控制系统
[P].
陈波
论文数:
0
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0
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陈波
.
中国专利
:CN217109149U
,2022-08-02
[9]
一种压力控制系统以及采用该压力控制系统的真空印刷机
[P].
杨娅
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杨娅
;
周运华
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周运华
;
刘丽梅
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刘丽梅
.
中国专利
:CN205326468U
,2016-06-22
[10]
气体流量标准装置真空气源极限压力控制系统
[P].
贾文涛
论文数:
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贾文涛
;
刘辉
论文数:
0
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刘辉
.
中国专利
:CN206420537U
,2017-08-18
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