一种多级大面积低温等离子体射流发生装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202322147107.6

申请日：

2023-08-09

公开(公告)号：

CN220606137U

公开(公告)日：

2024-03-15

发明(设计)人：

郭啸龙刘云龙

申请人：

武汉芙丽雅电子科技有限公司

申请人地址：

430073 湖北省武汉市东湖新技术开发区光谷大道特1号国际企业中心2栋5层05号03室

IPC主分类号：

H05H1/26

IPC分类号：

代理机构：

武汉蓝宝石专利代理事务所(特殊普通合伙) 42242

代理人：

方菲

法律状态：

避免重复授权放弃专利权

国省代码：

湖北省武汉市

引用

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共 50 条

[1]

一种多级大面积低温等离子体射流发生装置 [P].

郭啸龙 ;

刘云龙 .

中国专利 :CN117082712B ,2025-08-26

[2]

一种大面积低温等离子体射流发生器及灭菌装置 [P].

李兆杰 ;

杨丽君 ;

刘小菁 ;

王静 ;

刘玉敏 ;

李春喜 .

中国专利 :CN204191013U ,2015-03-04

[3]

一种大面积低温等离子体发生装置 [P].

方志 ;

张波 .

中国专利 :CN106028615A ,2016-10-12

[4]

一种医用低温等离子体大面积射流装置 [P].

郑超 ;

刘振 ;

黄逸凡 ;

闫克平 ;

寇艳芹 ;

曾叶 .

中国专利 :CN205142644U ,2016-04-06

[5]

一种低温等离子体射流发生装置 [P].

李雨泰 ;

石羿君 ;

文清皓 ;

牛思源 ;

周之力 ;

杨国林 ;

胡琴 ;

胡建林 ;

张志劲 ;

蒋兴良 .

中国专利 :CN119212191A ,2024-12-27

[6]

一种低温等离子体射流发生装置 [P].

宋颖 ;

詹扬春 ;

牛方勇 ;

刘本康 ;

赵志国 .

中国专利 :CN222509598U ,2025-02-18

[7]

一种低温等离子体射流发生装置 [P].

李雨泰 ;

石羿君 ;

文清皓 ;

牛思源 ;

周之力 ;

杨国林 ;

胡琴 ;

胡建林 ;

张志劲 ;

蒋兴良 .

中国专利 :CN119212191B ,2025-12-30

[8]

一种癌症治疗用低温等离子体大面积射流装置 [P].

李旦 .

中国专利 :CN106900134A ,2017-06-27

[9]

一种手持式大面积低温等离子体发生装置 [P].

李平 ;

常正实 ;

姚聪伟 ;

穆海宝 ;

张冠军 .

中国专利 :CN103945627B ,2014-07-23

[10]

一种辉光放电低温等离子体射流发生装置 [P].

李兆杰 ;

王静 ;

宋晓峰 ;

杨丽君 ;

崔凤杰 ;

魏玮 .

中国专利 :CN204145868U ,2015-02-04

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法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-08-26	避免重复授权放弃专利权	避免重复授予专利权IPC(主分类):H05H 1/26申请日:20230809授权公告日:20240315放弃生效日:20250826
2025-07-11	专利权人的姓名或者名称、国籍和地址的变更	专利权人的姓名或者名称、国籍和地址的变更IPC(主分类):H05H 1/26变更事项:专利权人变更前:武汉芙丽雅电子科技有限公司变更后:武汉芙丽雅电子科技有限公司变更事项:国家或地区变更前:中国变更后:中国变更事项:地址变更前:430073 湖北省武汉市东西湖区将军路街道宏图路8号武汉客厅J栋505-1-2室变更后:430073 湖北省武汉市江岸区后湖街兴业路与万隆六路交汇处新地东方花都F区1、3栋商铺1层2室
2025-02-25	专利权人的姓名或者名称、国籍和地址的变更	专利权人的姓名或者名称、国籍和地址的变更IPC(主分类):H05H 1/26变更事项:专利权人变更前:武汉芙丽雅电子科技有限公司变更后:武汉芙丽雅电子科技有限公司变更事项:国家或地区变更前:中国变更后:中国变更事项:地址变更前:430073 湖北省武汉市东湖新技术开发区光谷大道特1号国际企业中心2栋5层05号03室变更后:430073 湖北省武汉市东西湖区将军路街道宏图路8号武汉客厅J栋505-1-2室
2024-03-15	授权	授权