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光学层叠体及其制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202310935871.1
申请日
:
2023-07-26
公开(公告)号
:
CN117471601A
公开(公告)日
:
2024-01-30
发明(设计)人
:
伊藤丰
幡中伸行
申请人
:
住友化学株式会社
申请人地址
:
日本国东京都
IPC主分类号
:
G02B5/30
IPC分类号
:
G02B1/14
G02F1/1335
H10K59/80
G09F9/33
代理机构
:
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
:
朱丹
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
引用
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-07-11
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):G02B 5/30申请日:20230726
2024-01-30
公开
公开
共 50 条
[1]
光学层叠体及其制造方法
[P].
伊藤丰
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
住友化学株式会社
住友化学株式会社
伊藤丰
;
幡中伸行
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
住友化学株式会社
住友化学株式会社
幡中伸行
.
日本专利
:CN117471598A
,2024-01-30
[2]
光学层叠体及其制造方法
[P].
祖父江彰二
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
住友化学株式会社
住友化学株式会社
祖父江彰二
;
松野健次
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
住友化学株式会社
住友化学株式会社
松野健次
.
日本专利
:CN118259392A
,2024-06-28
[3]
光学层叠体及其制造方法
[P].
祖父江彰二
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
住友化学株式会社
住友化学株式会社
祖父江彰二
;
松野健次
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
住友化学株式会社
住友化学株式会社
松野健次
;
斋藤宗祐
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
住友化学株式会社
住友化学株式会社
斋藤宗祐
;
川上武志
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
住友化学株式会社
住友化学株式会社
川上武志
.
中国专利
:CN118732133A
,2024-10-01
[4]
光学层叠体
[P].
泽友树
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
泽友树
.
中国专利
:CN114815029A
,2022-07-29
[5]
光学层叠体及其制造方法
[P].
西上由纪
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
住友化学株式会社
住友化学株式会社
西上由纪
;
祖父江彰二
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
住友化学株式会社
住友化学株式会社
祖父江彰二
;
田中贵景
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
住友化学株式会社
住友化学株式会社
田中贵景
.
日本专利
:CN111522088B
,2024-07-05
[6]
光学层叠体及其制造方法
[P].
竹厚流
论文数:
0
引用数:
0
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0
竹厚流
;
藤长将司
论文数:
0
引用数:
0
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0
藤长将司
;
阪上智惠
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
阪上智惠
.
中国专利
:CN102139547A
,2011-08-03
[7]
光学层叠体及其制造方法
[P].
藤长将司
论文数:
0
引用数:
0
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0
藤长将司
;
八寻智惠
论文数:
0
引用数:
0
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0
八寻智惠
;
竹厚流
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
竹厚流
.
中国专利
:CN101923183B
,2010-12-22
[8]
光学层叠体及其制造方法
[P].
竹厚流
论文数:
0
引用数:
0
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0
竹厚流
;
藤长将司
论文数:
0
引用数:
0
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0
藤长将司
;
阪上智惠
论文数:
0
引用数:
0
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0
阪上智惠
.
中国专利
:CN102179976A
,2011-09-14
[9]
光学层叠体及其制造方法
[P].
名田敬之
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
住友化学株式会社
住友化学株式会社
名田敬之
;
幡中伸行
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
住友化学株式会社
住友化学株式会社
幡中伸行
.
日本专利
:CN120595415A
,2025-09-05
[10]
光学层叠体及其制造方法
[P].
沈载镐
论文数:
0
引用数:
0
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沈载镐
;
洪承柏
论文数:
0
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0
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0
洪承柏
;
金东辉
论文数:
0
引用数:
0
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0
金东辉
.
中国专利
:CN115038999A
,2022-09-09
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