具有低含量的单体二异氰酸酯的含异氰酸酯基团的聚合物

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202410015161.1
申请日
2019-08-05
公开(公告)号
CN117887023A
公开(公告)日
2024-04-16
发明(设计)人
M·施伦普夫 S·雷曼 B·杜尔米克
申请人
SIKA技术股份公司
申请人地址
瑞士巴尔
IPC主分类号
C08G18/48
IPC分类号
C08G18/76 C09D175/08 C09J175/08
代理机构
中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038
代理人
姜煌
法律状态
公开
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
具有低含量的单体二异氰酸酯的含异氰酸酯基团的聚合物 [P]. 
M·施伦普夫 ;
S·雷曼 ;
B·杜尔米克 .
中国专利 :CN112543779A ,2021-03-23
[2]
具有低含量的单体二异氰酸酯的含异氰酸酯基团的聚合物 [P]. 
M·施伦普夫 ;
S·雷曼 ;
B·杜尔米克 .
:CN112543779B ,2024-04-05
[3]
含异氰酸酯基团的线性聚合物 [P]. 
S·雷曼 ;
M·杰尼 .
:CN114981331B ,2025-02-11
[4]
具有低含量的单体二异氰酸酯的聚氨酯组合物 [P]. 
M·施伦普夫 ;
S·雷曼 ;
B·杜尔米克 .
中国专利 :CN112533972A ,2021-03-19
[5]
具有聚合物型增塑剂和低单体二异氰酸酯含量的聚氨酯组合物 [P]. 
A·克拉米尔 ;
M·施伦普夫 ;
U·布尔克哈德特 .
中国专利 :CN112533973A ,2021-03-19
[6]
具有低单体二异氰酸酯含量的聚脲组合物 [P]. 
J·霍尔麦斯 ;
A·汤姆森 ;
S·格鲁夫 ;
M·劳恩德 ;
A·考沃尔德 ;
M·盖特里尔 ;
M·拜恩 .
中国专利 :CN115667340A ,2023-01-31
[7]
具有低单体二异氰酸酯含量的聚脲组合物 [P]. 
J·霍尔麦斯 ;
A·汤姆森 ;
S·格鲁夫 ;
M·劳恩德 ;
A·考沃尔德 ;
M·盖特里尔 ;
M·拜恩 .
:CN115667340B ,2025-08-19
[8]
异氰酸酯组合物、异氰酸酯聚合物的制造方法和异氰酸酯聚合物 [P]. 
三宅信寿 ;
篠畑雅亮 ;
大久保敦史 ;
中冈弘一 ;
小杉裕士 .
中国专利 :CN109843963B ,2019-06-04
[9]
制备具有低残余异氰酸酯单体的异氰酸酯官能预聚合物的方法 [P]. 
S·E·翰里奇 ;
G·A·A·欧德 ;
维塞林克 .
中国专利 :CN1239549C ,2002-10-23
[10]
异氰酸酯组合物和异氰酸酯聚合物的制造方法 [P]. 
三宅信寿 ;
篠畑雅亮 ;
大久保敦史 .
中国专利 :CN109803992B ,2019-05-24