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一种光谱分析系统
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202322178592.3
申请日
:
2023-08-14
公开(公告)号
:
CN220795022U
公开(公告)日
:
2024-04-16
发明(设计)人
:
陈辉
申请人
:
成都源谱医疗科技有限公司
申请人地址
:
610000 四川省成都市高新区天府三街69号1栋20层2005号
IPC主分类号
:
G01N21/25
IPC分类号
:
G01N21/01
G06N3/045
G06N3/048
G06N3/084
G06F18/27
代理机构
:
成都熠邦鼎立专利代理有限公司 51263
代理人
:
曾克
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-04-16
授权
授权
共 50 条
[1]
一种通用光谱分析系统
[P].
苑高强
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苑高强
;
刘民玉
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刘民玉
.
中国专利
:CN207215699U
,2018-04-10
[2]
一种通用光谱分析系统
[P].
苑高强
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苑高强
;
刘民玉
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刘民玉
.
中国专利
:CN109520944A
,2019-03-26
[3]
光谱分析装置、光谱分析系统和光谱分析方法
[P].
林田纯弥
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
林田纯弥
;
柿下容弓
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
柿下容弓
;
服部英春
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
服部英春
;
堀入纯
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
堀入纯
.
日本专利
:CN120112781A
,2025-06-06
[4]
光谱分析系统及光谱分析设备
[P].
杨晓杰
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杨晓杰
;
杨国文
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杨国文
;
李靖
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李靖
;
赵卫东
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赵卫东
.
中国专利
:CN110836866A
,2020-02-25
[5]
光谱分析系统以及光谱分析方法
[P].
藤里砂
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株式会社岛津制作所
株式会社岛津制作所
藤里砂
;
村上幸雄
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株式会社岛津制作所
株式会社岛津制作所
村上幸雄
;
岩﨑祥子
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机构:
株式会社岛津制作所
株式会社岛津制作所
岩﨑祥子
.
日本专利
:CN118111923A
,2024-05-31
[6]
一种光谱分析系统和光谱分析方法
[P].
程嘉
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程嘉
;
邓龙虎
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邓龙虎
;
刘伟峰
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刘伟峰
;
季林红
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季林红
;
蒲以康
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蒲以康
.
中国专利
:CN106546330A
,2017-03-29
[7]
光谱分析系统
[P].
陈文聪
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陈文聪
;
蒲以康
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蒲以康
.
中国专利
:CN103592025A
,2014-02-19
[8]
一种光谱分析装置及系统
[P].
苑高强
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苑高强
;
刘民玉
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刘民玉
.
中国专利
:CN211783862U
,2020-10-27
[9]
光谱分析系统
[P].
韩旭
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机构:
苏州山河光电科技有限公司
苏州山河光电科技有限公司
韩旭
;
史坦
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苏州山河光电科技有限公司
苏州山河光电科技有限公司
史坦
;
戴安丽
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苏州山河光电科技有限公司
苏州山河光电科技有限公司
戴安丽
;
范鸿杰
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机构:
苏州山河光电科技有限公司
苏州山河光电科技有限公司
范鸿杰
.
中国专利
:CN118408887A
,2024-07-30
[10]
通用气体光谱分析装置及气体光谱分析系统
[P].
苑高强
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苑高强
;
刘民玉
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刘民玉
.
中国专利
:CN207850907U
,2018-09-11
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