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用于化学机械抛光的保持环
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202111356443.0
申请日
:
2017-07-24
公开(公告)号
:
CN113997194B
公开(公告)日
:
2024-04-05
发明(设计)人
:
安德鲁·J·纳甘盖斯特
克里斯托弗·兴-均·李
托马斯·李
阿南德·N·伊耶
刁杰
焕波·张
埃里克·S·罗丹姆
李魏成
吴正勋
申请人
:
应用材料公司
申请人地址
:
美国加利福尼亚州
IPC主分类号
:
B24B37/32
IPC分类号
:
H01L21/687
B24B37/04
H01L21/306
H01L21/67
代理机构
:
北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006
代理人
:
徐金国;赵静
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-04-05
授权
授权
共 50 条
[1]
用于化学机械抛光的保持环
[P].
安德鲁·J·纳甘盖斯特
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安德鲁·J·纳甘盖斯特
;
克里斯托弗·兴-均·李
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克里斯托弗·兴-均·李
;
托马斯·李
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托马斯·李
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阿南德·N·伊耶
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阿南德·N·伊耶
;
刁杰
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刁杰
;
焕波·张
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焕波·张
;
埃里克·S·罗丹姆
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埃里克·S·罗丹姆
;
李魏成
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李魏成
;
吴正勋
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吴正勋
.
中国专利
:CN109475997A
,2019-03-15
[2]
用于化学机械抛光的保持环
[P].
安德鲁·J·纳甘盖斯特
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安德鲁·J·纳甘盖斯特
;
克里斯托弗·兴-均·李
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克里斯托弗·兴-均·李
;
托马斯·李
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托马斯·李
;
阿南德·N·伊耶
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阿南德·N·伊耶
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刁杰
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刁杰
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焕波·张
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焕波·张
;
埃里克·S·罗丹姆
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埃里克·S·罗丹姆
;
李魏成
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李魏成
;
吴正勋
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吴正勋
.
中国专利
:CN113997194A
,2022-02-01
[3]
化学机械抛光保持环
[P].
相红旗
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相红旗
;
姚力军
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姚力军
;
潘杰
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潘杰
.
中国专利
:CN212170043U
,2020-12-18
[4]
化学机械抛光装置及用于化学机械抛光装置的固定环
[P].
林政锜
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
林政锜
;
沈稘翔
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
沈稘翔
;
侯德谦
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
侯德谦
;
张棠贵
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
张棠贵
;
刘啟人
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
刘啟人
;
黃惠琪
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
黃惠琪
;
陈科维
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
陈科维
.
中国专利
:CN222289771U
,2025-01-03
[5]
一种化学机械抛光保持环和化学机械抛光承载头
[P].
刘建业
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刘建业
.
中国专利
:CN213858731U
,2021-08-03
[6]
一种化学机械抛光保持环和化学机械抛光承载头
[P].
赵德文
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清华大学
清华大学
赵德文
;
刘远航
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刘远航
;
孟松林
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清华大学
孟松林
.
中国专利
:CN118163032A
,2024-06-11
[7]
一种化学机械抛光保持环和化学机械抛光承载头
[P].
赵德文
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清华大学
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赵德文
;
刘远航
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刘远航
;
孟松林
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机构:
清华大学
清华大学
孟松林
.
中国专利
:CN110524412B
,2024-07-12
[8]
化学机械抛光装置和化学机械抛光方法
[P].
铃木三惠子
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铃木三惠子
;
土屋泰章
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土屋泰章
.
中国专利
:CN1098746C
,1999-09-01
[9]
一种化学机械抛光保持环和化学机械抛光承载头
[P].
孟松林
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孟松林
;
赵德文
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赵德文
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李长坤
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李长坤
;
倪孟骐
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倪孟骐
.
中国专利
:CN211163459U
,2020-08-04
[10]
一种化学机械抛光保持环和化学机械抛光承载头
[P].
孟松林
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孟松林
;
赵德文
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赵德文
;
李长坤
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李长坤
;
倪孟骐
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倪孟骐
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中国专利
:CN111482893A
,2020-08-04
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