化学气相沉积设备

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN202322796042.8
申请日
2023-10-18
公开(公告)号
CN221028673U
公开(公告)日
2024-05-28
发明(设计)人
杨贤烁
申请人
乐金显示光电科技(中国)有限公司
申请人地址
510530 广东省广州市高新技术产业开发区科学城开泰大道59号
IPC主分类号
C23C16/509
IPC分类号
代理机构
北京品源专利代理有限公司 11332
代理人
李慧敏
法律状态
授权
国省代码
河北省 保定市
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共 50 条
[1]
化学气相沉积设备 [P]. 
龙梅丽 .
中国专利 :CN223016962U ,2025-06-24
[2]
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周向阳 .
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[3]
化学气相沉积设备 [P]. 
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化学气相沉积炉及化学气相沉积设备 [P]. 
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[9]
化学气相沉积设备 [P]. 
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