一种二维半导体材料化学气相沉积装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202322412902.3

申请日：

2023-09-06

公开(公告)号：

CN220846260U

公开(公告)日：

2024-04-26

发明(设计)人：

肖佳展郑嘉璐

申请人：

西安石油大学

申请人地址：

710065 陕西省西安市雁塔区长延堡街道电子二路东段18号

IPC主分类号：

C23C16/44

IPC分类号：

C23C16/458

代理机构：

河北卓英知识产权代理有限公司 13181

代理人：

吕甜星

法律状态：

授权

国省代码：

陕西省西安市

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-04-26	授权	授权
2025-08-29	专利权的终止	未缴年费专利权终止IPC(主分类):C23C 16/44申请日:20230906授权公告日:20240426

共 50 条

[1]

二维半导体材料化学气相沉积方法及其装置 [P].

何焱腾 ;

陈乃榕 .

中国专利 :CN115094400A ,2022-09-23

[2]

一种半导体材料的化学气相沉积装置及其方法 [P].

占婷婷 ;

黄辉 ;

渠波 ;

赵丹娜 ;

宗杨 ;

吕瑞 .

中国专利 :CN106148913B ,2016-11-23

[3]

一种制备二维薄膜材料的化学气相沉积装置 [P].

蔡金明 ;

侯元捷 ;

蔡晓明 .

中国专利 :CN209890731U ,2020-01-03

[4]

一种化学气相沉积装置以及方法 [P].

高庆国 ;

黄子健 ;

黄婉莹 ;

程露 ;

韦舒婷 ;

潘新建 ;

于淼 ;

刘萍 ;

刘黎明 .

中国专利 :CN117684151A ,2024-03-12

[5]

一种半导体生产用化学气相沉积装置 [P].

梁亚 .

中国专利 :CN108588683A ,2018-09-28

[6]

二维材料化学气相沉积设备 [P].

许凯 .

中国专利 :CN307412512S ,2022-06-21

[7]

化学气相沉积装置 [P].

周向阳 .

中国专利 :CN223292634U ,2025-09-02

[8]

化学气相沉积装置 [P].

周向阳 .

中国专利 :CN222923230U ,2025-05-30

[9]

化学气相沉积装置 [P].

胡广严 ;

吴龙江 ;

林宗贤 .

中国专利 :CN207331057U ,2018-05-08

[10]

调光玻璃、化学气相沉积装置及半导体制造设备 [P].

宋焕骁 ;

孔贺廷 ;

吕梦南 ;

刘瑞 .

中国专利 :CN223633275U ,2025-12-05

← 1 2 3 4 5 →