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半导体密封成形用临时保护膜、带有临时保护膜的引线框、带有临时保护膜的密封成形体及制造半导体装置的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202311257971.X
申请日
:
2019-03-01
公开(公告)号
:
CN117334646A
公开(公告)日
:
2024-01-02
发明(设计)人
:
黑田孝博
名儿耶友宏
友利直己
申请人
:
株式会社力森诺科
申请人地址
:
日本东京
IPC主分类号
:
H01L23/29
IPC分类号
:
C09J7/25
C09J7/30
C09J179/08
C08G73/12
H01L21/56
H01L23/495
代理机构
:
永新专利商标代理有限公司 72002
代理人
:
白丽
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-01-19
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H01L 23/29申请日:20190301
2024-01-02
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体密封成形用临时保护膜、带有临时保护膜的引线框、带有临时保护膜的密封成形体及制造半导体装置的方法
[P].
黑田孝博
论文数:
0
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黑田孝博
;
名儿耶友宏
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名儿耶友宏
;
友利直己
论文数:
0
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0
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0
友利直己
.
中国专利
:CN111386594A
,2020-07-07
[2]
半导体密封成形用临时保护膜、带有临时保护膜的引线框、带有临时保护膜的密封成形体及制造半导体装置的方法
[P].
友利直己
论文数:
0
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0
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0
友利直己
;
名儿耶友宏
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名儿耶友宏
;
黑田孝博
论文数:
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0
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0
黑田孝博
.
中国专利
:CN111406308A
,2020-07-10
[3]
半导体密封成形用临时保护膜、带有临时保护膜的引线框、带有临时保护膜的密封成形体以及制造半导体装置的方法
[P].
名儿耶友宏
论文数:
0
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0
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0
名儿耶友宏
.
中国专利
:CN113874989A
,2021-12-31
[4]
半导体密封成形用临时保护膜、带有临时保护膜的引线框、密封成形体及制造半导体封装件的方法
[P].
黑田孝博
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黑田孝博
;
友利直己
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友利直己
;
名児耶友宏
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0
名児耶友宏
.
中国专利
:CN115335973A
,2022-11-11
[5]
半导体密封成形用临时保护膜及其制造方法、带有临时保护膜的引线框、被临时保护的密封成形体以及制造半导体封装件的方法
[P].
黑田孝博
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黑田孝博
;
友利直己
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友利直己
;
名児耶友宏
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名児耶友宏
.
中国专利
:CN115335990A
,2022-11-11
[6]
半导体密封成形用临时保护膜及其制造方法、带有临时保护膜的引线框、被临时保护的密封成形体以及制造半导体封装件的方法
[P].
黑田孝博
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机构:
株式会社力森诺科
株式会社力森诺科
黑田孝博
;
友利直己
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株式会社力森诺科
株式会社力森诺科
友利直己
;
名児耶友宏
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机构:
株式会社力森诺科
株式会社力森诺科
名児耶友宏
.
日本专利
:CN115335990B
,2025-07-11
[7]
半导体密封成形用临时保护膜、带有该膜的引线框和密封成形体、及制造半导体装置的方法
[P].
友利直己
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机构:
株式会社力森诺科
株式会社力森诺科
友利直己
;
名儿耶友宏
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机构:
株式会社力森诺科
株式会社力森诺科
名儿耶友宏
;
黑田孝博
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机构:
株式会社力森诺科
株式会社力森诺科
黑田孝博
.
日本专利
:CN111406308B
,2024-02-13
[8]
半导体密封成形用临时保护膜
[P].
友利直己
论文数:
0
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0
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0
友利直己
;
名儿耶友宏
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0
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名儿耶友宏
.
中国专利
:CN110603624A
,2019-12-20
[9]
半导体密封成形用临时保护膜
[P].
友利直己
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0
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机构:
株式会社力森诺科
株式会社力森诺科
友利直己
;
名儿耶友宏
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0
机构:
株式会社力森诺科
株式会社力森诺科
名儿耶友宏
.
日本专利
:CN110603624B
,2024-12-13
[10]
临时保护膜、密封成形体及制造半导体封装件的方法
[P].
黑田孝博
论文数:
0
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0
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机构:
株式会社力森诺科
株式会社力森诺科
黑田孝博
;
友利直己
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0
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0
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机构:
株式会社力森诺科
株式会社力森诺科
友利直己
;
名児耶友宏
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
株式会社力森诺科
株式会社力森诺科
名児耶友宏
.
日本专利
:CN115335973B
,2025-12-12
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