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一种离子型表面活性剂生产方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202311346577.3
申请日
:
2023-10-18
公开(公告)号
:
CN117467501A
公开(公告)日
:
2024-01-30
发明(设计)人
:
刘奎专
申请人
:
湖北尚助化学有限公司
申请人地址
:
448000 湖北省荆门市掇刀区荆和大道2号
IPC主分类号
:
C11D1/83
IPC分类号
:
C11D1/72
C11D1/66
C11D3/34
C11D3/06
C11D3/20
C11D3/08
C11D3/30
C11D3/60
代理机构
:
武汉惠创知识产权代理事务所(普通合伙) 42243
代理人
:
童思明
法律状态
:
公开
国省代码
:
湖北省 荆门市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-01-30
公开
公开
2024-02-20
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):C11D 1/83申请日:20231018
共 50 条
[1]
一种复合离子型表面活性剂
[P].
马凤丽
论文数:
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0
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机构:
大庆再创科技有限公司
大庆再创科技有限公司
马凤丽
;
丁志光
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机构:
大庆再创科技有限公司
大庆再创科技有限公司
丁志光
;
李永文
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机构:
大庆再创科技有限公司
大庆再创科技有限公司
李永文
;
白清贤
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机构:
大庆再创科技有限公司
大庆再创科技有限公司
白清贤
.
中国专利
:CN119955499A
,2025-05-09
[2]
表面活性剂
[P].
乡田哲也
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乡田哲也
;
小林和史
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小林和史
;
小宫薰
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小宫薰
;
都筑政秀
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都筑政秀
;
水足岳明
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水足岳明
;
别府耕次
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别府耕次
.
中国专利
:CN1330672C
,2005-03-09
[3]
一种复合离子型表面活性剂
[P].
马凤丽
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机构:
大庆再创科技有限公司
大庆再创科技有限公司
马凤丽
;
丁志光
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机构:
大庆再创科技有限公司
大庆再创科技有限公司
丁志光
;
李永文
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机构:
大庆再创科技有限公司
大庆再创科技有限公司
李永文
;
白清贤
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机构:
大庆再创科技有限公司
大庆再创科技有限公司
白清贤
.
中国专利
:CN119955499B
,2025-08-15
[4]
表面活性剂
[P].
N·M·卡彭特
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N·M·卡彭特
;
S·J·安德森
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S·J·安德森
;
R·R·泰诺瑞
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R·R·泰诺瑞
;
P·G·海博特
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P·G·海博特
.
中国专利
:CN1126589C
,2000-03-29
[5]
非离子型表面活性剂组合物
[P].
P·R·埃洛韦
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P·R·埃洛韦
;
A·L·克拉索维斯基
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A·L·克拉索维斯基
;
I·V·格拉夫
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I·V·格拉夫
;
汪琳
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汪琳
.
中国专利
:CN107879941A
,2018-04-06
[6]
非离子型表面活性剂组合物
[P].
P·R·埃洛韦
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0
P·R·埃洛韦
;
A·L·克拉索维斯基
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A·L·克拉索维斯基
;
I·V·格拉夫
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I·V·格拉夫
;
汪琳
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汪琳
.
中国专利
:CN104781226A
,2015-07-15
[7]
一种复合表面活性剂
[P].
葛家利
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0
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0
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葛家利
.
中国专利
:CN106669537A
,2017-05-17
[8]
一种复合表面活性剂
[P].
葛家利
论文数:
0
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0
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0
葛家利
.
中国专利
:CN106669234A
,2017-05-17
[9]
阴离子型表面活性剂粉末
[P].
佐久间泰光
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佐久间泰光
;
三好一仁
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三好一仁
.
中国专利
:CN1753981A
,2006-03-29
[10]
阳离子型Gemini表面活性剂
[P].
王亚光
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王亚光
;
王利民
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王利民
;
刘炼
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刘炼
;
田禾
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田禾
;
杨柳波
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杨柳波
.
中国专利
:CN101007246A
,2007-08-01
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