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光源及自动分析装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202280040734.5
申请日
:
2022-06-15
公开(公告)号
:
CN117425817A
公开(公告)日
:
2024-01-19
发明(设计)人
:
安藤贵洋
气田康宏
松冈裕哉
有田昌平
申请人
:
株式会社日立高新技术
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
G01N21/01
IPC分类号
:
H01L33/48
G01N35/00
G01N21/59
代理机构
:
北京银龙知识产权代理有限公司 11243
代理人
:
许静;范胜杰
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-02-06
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):G01N 21/01申请日:20220615
2024-01-19
公开
公开
共 50 条
[1]
自动分析装置及自动分析装置的光源稳定化方法
[P].
深谷昌史
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
深谷昌史
;
高桥拓也
论文数:
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
高桥拓也
;
窟川大空
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
窟川大空
;
福村真实
论文数:
0
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0
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
福村真实
.
日本专利
:CN119744347A
,2025-04-01
[2]
自动分析装置及分析方法
[P].
与仪刚史
论文数:
0
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与仪刚史
;
足立作一郎
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足立作一郎
;
三村智宪
论文数:
0
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三村智宪
;
山崎创
论文数:
0
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0
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山崎创
.
中国专利
:CN103765198B
,2014-04-30
[3]
清洗装置及自动分析装置
[P].
鹤田博士
论文数:
0
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0
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鹤田博士
.
中国专利
:CN101632025A
,2010-01-20
[4]
洗净装置及自动分析装置
[P].
加藤幸
论文数:
0
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0
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0
加藤幸
.
中国专利
:CN101449168A
,2009-06-03
[5]
自动分析装置及检体分析方法
[P].
梅野直人
论文数:
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
梅野直人
;
稻边利幸
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
稻边利幸
;
加吕光
论文数:
0
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
加吕光
;
三枝高志
论文数:
0
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0
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
三枝高志
.
日本专利
:CN120344858A
,2025-07-18
[6]
自动分析装置及自动分析方法
[P].
伊藤匠
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伊藤匠
;
东信二
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东信二
;
深谷昌史
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深谷昌史
.
中国专利
:CN110036296A
,2019-07-19
[7]
自动分析装置及自动分析方法
[P].
约翰·李
论文数:
0
引用数:
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约翰·李
.
中国专利
:CN104345158A
,2015-02-11
[8]
自动分析装置及自动分析方法
[P].
江口纱央里
论文数:
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
江口纱央里
;
高仓树
论文数:
0
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
高仓树
;
梅木博也
论文数:
0
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
梅木博也
;
安力川真美
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
安力川真美
.
日本专利
:CN120752537A
,2025-10-03
[9]
自动分析装置
[P].
舟越砂穗
论文数:
0
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
舟越砂穗
;
大草武德
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0
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
大草武德
;
矶岛宣之
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
矶岛宣之
;
横山洸几
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0
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
横山洸几
.
日本专利
:CN120641757A
,2025-09-12
[10]
自动分析装置
[P].
渡部道治
论文数:
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渡部道治
;
佐佐木重幸
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佐佐木重幸
;
大草武德
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大草武德
;
矶岛宣之
论文数:
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矶岛宣之
.
中国专利
:CN109073666A
,2018-12-21
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