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一种曝光机的排水结构
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN202322527720.0
申请日：
2023-09-18
公开(公告)号：
CN220983717U
公开(公告)日：
2024-05-17
发明(设计)人：
代晓龙
申请人：
深圳市欣光辉科技有限公司
申请人地址：
518000 广东省深圳市宝安区新桥街道新二社区南岭路21号E栋三层
IPC主分类号：
G03F7/20
IPC分类号：
C02F9/00
C02F1/00
C02F1/28
C02F1/32
C02F3/00
C02F101/30
代理机构：
代理人：
法律状态：
授权
国省代码：
广东省
深圳市
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-05-17 | 授权 | 授权 |
| 2025-12-12 | 专利申请权、专利权的转移 | 专利权的转移IPC(主分类):G03F 7/20登记生效日:20251125变更事项:专利权人变更前权利人:深圳市欣光辉科技有限公司变更后权利人:王国栋变更事项:国家或地区变更前权利人:中国变更后权利人:中国变更事项:地址变更前权利人:518000 广东省深圳市宝安区新桥街道新二社区南岭路21号E栋三层变更后权利人:474450 河南省南阳市浙川县香花镇东岗村王洼组11号 |