焦平面阵列的非均匀性校正方法以及装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202410490174.4

申请日：

2024-04-23

公开(公告)号：

CN118175443A

公开(公告)日：

2024-06-11

发明(设计)人：

崔东伟常智杰王伟明

申请人：

深圳市清岚微视科技有限公司

申请人地址：

518063 广东省深圳市南山区粤海街道高新区社区粤兴三道6号南大产学研大厦A区C301

IPC主分类号：

H04N25/674

IPC分类号：

代理机构：

广州中祺知力知识产权代理事务所(普通合伙) 44736

代理人：

陈军

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-08-13	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):H04N 25/674申请日:20240423
2025-07-15	专利权人的姓名或者名称、国籍和地址的变更	专利权人的姓名或者名称、国籍和地址的变更IPC(主分类):H04N 25/674变更事项:专利权人变更前:深圳市清岚微视科技有限公司变更后:合肥市清岚微视科技有限公司变更事项:国家或地区变更前:中国变更后:中国变更事项:地址变更前:518063 广东省深圳市南山区粤海街道高新区社区粤兴三道6号南大产学研大厦A区C301变更后:230094 安徽省合肥市高新区长宁社区服务中心习友路3333号中国（合肥）国际智能语音产业园5号楼2楼217-4室
2024-06-11	公开	公开
2025-01-07	授权	授权

共 50 条

[1]

焦平面阵列的非均匀性校正方法以及装置 [P].

崔东伟 ;

常智杰 ;

王伟明 .

中国专利 :CN118175443B ,2025-01-07

[2]

凝视型焦平面阵列的非均匀性校正方法及装置 [P].

谭恢先 .

中国专利 :CN110361094A ,2019-10-22

[3]

一种非制冷红外焦平面阵列非均匀性校正方法 [P].

宋鸿飞 ;

张科航 ;

曹文晓 ;

谭文 ;

郭飞 ;

张馨壬 ;

周见红 ;

孟颖 ;

闫钰锋 ;

李鹏飞 ;

刘紫璐 ;

张云朋 .

中国专利 :CN116055908B ,2024-10-29

[4]

一种焦平面阵列非均匀性校正方法及校正电路 [P].

谢光忠 ;

李小飞 ;

杨凯 ;

鲁竟原 ;

阙隆成 .

中国专利 :CN111447382B ,2020-07-24

[5]

一种非制冷红外焦平面阵列的非均匀性校正方法 [P].

郑兴 ;

李宵 ;

马宣 ;

章翔 ;

刘子骥 .

中国专利 :CN103308178A ,2013-09-18

[6]

非制冷红外焦平面阵列非均匀性校正的方法和装置 [P].

雷述宇 .

中国专利 :CN104677501B ,2015-06-03

[7]

红外焦平面阵列校正方法 [P].

陈刚 ;

夏衍 ;

韩建贸 ;

蒋骏飞 .

中国专利 :CN104406697B ,2015-03-11

[8]

基于积分时间调整的红外焦平面阵列非均匀性校正方法 [P].

杨少华 ;

柳月波 ;

路国光 ;

颜佳辉 ;

牛皓 ;

陆健婷 ;

赖灿雄 ;

马腾 ;

王宏跃 .

中国专利 :CN120992035A ,2025-11-21

[9]

一种红外焦平面阵列非均匀性校正方法及校正电路 [P].

雷述宇 .

中国专利 :CN109974866B ,2019-07-05

[10]

一种红外焦平面阵列非均匀性自适应校正方法 [P].

张天序 ;

桑红石 ;

钟胜 ;

施长城 ;

刘慧娜 ;

李洁珺 ;

周泱 ;

袁雅婧 .

中国专利 :CN100535618C ,2007-09-19

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