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牺牲胶组合物
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202211507140.9
申请日
:
2022-11-29
公开(公告)号
:
CN118109149A
公开(公告)日
:
2024-05-31
发明(设计)人
:
王鸿钦
黄滢华
白友钦
申请人
:
磐采股份有限公司
申请人地址
:
中国台湾桃园市
IPC主分类号
:
C09J139/06
IPC分类号
:
C09J11/06
代理机构
:
北京市浩天知识产权代理事务所(普通合伙) 11276
代理人
:
周华宁
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-06-18
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):C09J 139/06申请日:20221129
2024-05-31
公开
公开
共 50 条
[1]
用于牺牲膜的组合物
[P].
朱永祺
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朱永祺
;
郭宏瑞
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郭宏瑞
;
胡毓祥
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胡毓祥
;
廖思豪
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廖思豪
.
中国专利
:CN112574668A
,2021-03-30
[2]
胶衣组合物
[P].
A·穆勒
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A·穆勒
;
I·弗里辛格
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I·弗里辛格
.
中国专利
:CN1489609A
,2004-04-14
[3]
施胶组合物
[P].
E·林德根
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E·林德根
;
S·弗罗里啻
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S·弗罗里啻
;
R·斯卡尔
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R·斯卡尔
.
中国专利
:CN1346417A
,2002-04-24
[4]
光刻胶正胶组合物
[P].
上谷保则
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上谷保则
;
森马洋
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森马洋
;
高田佳幸
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高田佳幸
.
中国专利
:CN1219238C
,1999-12-08
[5]
光刻胶正胶组合物
[P].
八子由子
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八子由子
;
竹山尚干
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竹山尚干
.
中国专利
:CN1276540A
,2000-12-13
[6]
光刻胶组合物
[P].
金相奏
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金相奏
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康升镇
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康升镇
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成始震
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成始震
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末次益实
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末次益实
;
山田爱理
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山田爱理
.
中国专利
:CN100524019C
,2003-04-02
[7]
光刻胶组合物
[P].
山口训史
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山口训史
;
金淳信
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金淳信
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吉田勋
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吉田勋
;
市川幸司
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市川幸司
.
中国专利
:CN102033426A
,2011-04-27
[8]
光刻胶组合物
[P].
釜渊明
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釜渊明
;
山下裕子
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山下裕子
.
中国专利
:CN102023479A
,2011-04-20
[9]
光刻胶组合物
[P].
嶋田雅彦
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嶋田雅彦
;
市川幸司
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市川幸司
.
中国专利
:CN101995770A
,2011-03-30
[10]
光刻胶组合物
[P].
J·F·卡梅伦
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J·F·卡梅伦
;
D·W·李
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D·W·李
;
P·特雷夫纳斯
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P·特雷夫纳斯
;
G·J·斯万森
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G·J·斯万森
;
J.W.宋
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J.W.宋
.
中国专利
:CN1821869A
,2006-08-23
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