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化妆料或医疗材料
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201980006864.5
申请日
:
2019-02-01
公开(公告)号
:
CN111818903B
公开(公告)日
:
2024-05-24
发明(设计)人
:
青木贵裕
川岛知子
谷池优子
申请人
:
松下知识产权经营株式会社
申请人地址
:
日本大阪府
IPC主分类号
:
A61K8/49
IPC分类号
:
A61K8/34
A61K8/368
A61K8/60
A61K8/67
A61K8/73
A61K9/70
A61K47/10
A61K47/12
A61K47/22
A61Q19/00
代理机构
:
北京市中咨律师事务所 11247
代理人
:
李渊茹;段承恩
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-05-24
授权
授权
共 50 条
[1]
化妆料或医疗材料
[P].
青木贵裕
论文数:
0
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0
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0
青木贵裕
;
川岛知子
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川岛知子
;
谷池优子
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谷池优子
.
中国专利
:CN111818903A
,2020-10-23
[2]
化妆料用粉末材料、化妆料用粉末材料的制造方法以及化妆料
[P].
土屋玲一郎
论文数:
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土屋玲一郎
;
服部春香
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服部春香
;
小田弥生
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小田弥生
.
中国专利
:CN115515551A
,2022-12-23
[3]
化妆料用粉末材料、化妆料用粉末材料的制造方法以及化妆料
[P].
土屋玲一郎
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机构:
大东化成工业株式会社
大东化成工业株式会社
土屋玲一郎
;
服部春香
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机构:
大东化成工业株式会社
大东化成工业株式会社
服部春香
;
小田弥生
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机构:
大东化成工业株式会社
大东化成工业株式会社
小田弥生
.
日本专利
:CN115515551B
,2024-09-06
[4]
化妆料
[P].
泽木茂
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泽木茂
;
山田胜久
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山田胜久
;
内藤和文
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内藤和文
.
中国专利
:CN1219118A
,1999-06-09
[5]
化妆料
[P].
野田清义
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机构:
株式会社资生堂
株式会社资生堂
野田清义
;
渡边启
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机构:
株式会社资生堂
株式会社资生堂
渡边启
.
日本专利
:CN120265265A
,2025-07-04
[6]
化妆料
[P].
细川稔
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细川稔
.
中国专利
:CN102046144A
,2011-05-04
[7]
化妆料
[P].
张阳
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机构:
株式会社资生堂
株式会社资生堂
张阳
.
日本专利
:CN120265266A
,2025-07-04
[8]
化妆料
[P].
周林
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机构:
株式会社资生堂
株式会社资生堂
周林
;
栗延理绘
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机构:
株式会社资生堂
株式会社资生堂
栗延理绘
.
日本专利
:CN118252771A
,2024-06-28
[9]
化妆材料
[P].
小西将幸
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小西将幸
;
早川知宏
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早川知宏
.
中国专利
:CN107613951A
,2018-01-19
[10]
医疗材料
[P].
坂口博一
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坂口博一
;
阪口有佳
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阪口有佳
;
棚桥一裕
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棚桥一裕
.
中国专利
:CN103608048A
,2014-02-26
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