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多孔質シリカ粉末[ja]
被引:0
申请号
:
JP20140532992
申请日
:
2013-08-26
公开(公告)号
:
JPWO2014034588A1
公开(公告)日
:
2016-08-08
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G01N30/88
IPC分类号
:
B01J20/10
C01B33/18
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
シリカ粉末[ja]
[P].
日本专利
:JP7473726B1
,2024-04-23
[2]
シリカ粉末及びその用途[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007108437A1
,2009-08-06
[3]
合成非晶質シリカ粉末及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015114956A1
,2017-03-23
[4]
多孔質シリコン材料、蓄電デバイス及び多孔質シリコン材料の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025135773A
,2025-09-19
[5]
シリカ粒子、及び、シリカ粒子の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025146918A
,2025-10-03
[6]
シリカ粒子、及び、シリカ粒子の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7529941B1
,2024-08-06
[7]
シリカフュームの品質評価方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025144255A
,2025-10-02
[8]
高濃度シリカスラリー[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2004048265A1
,2006-03-23
[9]
球状シリカ微粉末及び球状シリカ微粉末を用いた静電荷像現像用トナー外添剤[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013018704A1
,2015-03-05
[10]
中空シリカ粒子の製造方法[ja]
[P].
WATANABE YUSUKE
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
ADMATECHS CO LTD
ADMATECHS CO LTD
WATANABE YUSUKE
.
日本专利
:JP2024033644A
,2024-03-13
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