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アミン接触プロセスの際の触媒水溶液の再循環及び廃棄処理[ja]
被引:0
申请号
:
JP20160528411
申请日
:
2014-07-15
公开(公告)号
:
JP2017503751A
公开(公告)日
:
2017-02-02
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C07C45/75
IPC分类号
:
C07C47/22
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
アミン接触プロセスの際の触媒水溶液の再循環及び廃棄処理[ja]
[P].
日本专利
:JP6440708B2
,2018-12-19
[2]
アミン含有水溶液の処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7740016B2
,2025-09-17
[3]
アミンの単離のためのプロセス[ja]
[P].
日本专利
:JP2024518303A
,2024-05-01
[4]
副生成物の再循環を伴う液相中のイソホロンの合成のためのプロセス[ja]
[P].
日本专利
:JP2025540444A
,2025-12-11
[5]
セメント製造プロセスから生じる廃棄物の再利用循環方法及びそのシステム[ja]
[P].
日本专利
:JP7485125B1
,2024-05-16
[6]
プロパンの酸化的脱水素化のための触媒及びプロセス[ja]
[P].
日本专利
:JP2022513984A
,2022-02-09
[7]
電気透析によるアルカリ触媒の再循環を伴う液相中のイソホロンの合成のためのプロセス[ja]
[P].
日本专利
:JP2025540445A
,2025-12-11
[8]
水溶液からのクロラミン及び水銀の除去[ja]
[P].
日本专利
:JP2016515926A
,2016-06-02
[9]
水溶液からのクロラミン及び水銀の除去[ja]
[P].
日本专利
:JP6416185B2
,2018-10-31
[10]
環状アミドの合成のための効果的なプロセス[ja]
[P].
日本专利
:JP2018512419A
,2018-05-17
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