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マスクブランク、転写用マスクおよび転写用マスクの製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20150504087
申请日
:
2014-09-05
公开(公告)号
:
JPWO2015045801A1
公开(公告)日
:
2017-03-09
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G03F1/32
IPC分类号
:
G03F1/58
H01L21/027
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
マスクブランク、転写用マスクおよび転写用マスクの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015037392A1
,2017-03-02
[2]
マスクブランクおよび転写用マスク[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010113475A1
,2012-10-04
[3]
マスクブランク及び転写用マスク[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011007800A1
,2012-12-27
[4]
マスクブランク及び転写用マスクの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010113787A1
,2012-10-11
[5]
マスクブランク、転写用マスク、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016147518A1
,2017-12-28
[6]
マスクブランクスの製造方法、及び転写マスクの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2004088420A1
,2006-07-06
[7]
転写用マスクの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010147172A1
,2012-12-06
[8]
マスクブランクス、マスクブランクスの製造方法、転写マスクの製造方法及び半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2004088421A1
,2006-07-06
[9]
マスクブランク、転写用マスク及び半導体デバイスの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6297766B1
,2018-03-20
[10]
マスクブランク、転写用マスク及び半導体デバイスの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018037863A1
,2018-08-23
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