量子情報プロセッサのためのプロセッサ・エレメント[ja]

被引：0

申请号：

JP20210568194

申请日：

2020-05-12

公开(公告)号：

JP2022533612A

公开(公告)日：

2022-07-25

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/336

IPC分类号：

H01L29/06

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共 50 条

[1]

オプトエレクトロニック結合プラットフォームおよびセンサ[ja] [P].

日本专利 :JP2022539671A ,2022-09-13

[2]

有機エレクトロニクスのためのヘテロアセン[ja] [P].

日本专利 :JP2017509615A ,2017-04-06

[3]

３次元のスタックメモリを含む人工知能プロセッサ[ja] [P].

日本专利 :JP2022531051A ,2022-07-06

[4]

３次元のスタックメモリを含む人工知能プロセッサ[ja] [P].

SASIKANTH MANIPATRUNI ;

RAJEEV KUMAR DOKANIA ;

AMRITA MATHURIYA ;

RAMAMOORTHY RAMESH .

日本专利 :JP2023164436A ,2023-11-10

[5]

Ｘ線の直接変換のためのセンサチップを製造するための方法、Ｘ線の直接変換のためのセンサ、およびそのようなセンサを使用した歯科放射線装置[ja] [P].

日本专利 :JP2015531611A ,2015-11-05

[6]

半導体圧力チップセンサ[ja] [P].

日本专利 :JP7255943B1 ,2023-04-11

[7]

抽出プロセスのための選択性溶媒の再生方法[ja] [P].

日本专利 :JP2015512976A ,2015-04-30

[8]

ホール集積センサおよびその製造プロセス[ja] [P].

日本专利 :JP2022540164A ,2022-09-14

[9]

閾値シフトの低減のためのシリコン窒化プロセス[ja] [P].

日本专利 :JP2019519937A ,2019-07-11

[10]

ウエットプロセス用有機半導体材料[ja] [P].

日本专利 :JP5924783B2 ,2016-05-25

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