触媒活性足場を調製するためのプロセス[ja]

被引：0

申请号：

JP20230501296

申请日：

2021-07-09

公开(公告)号：

JP2023533330A

公开(公告)日：

2023-08-02

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

B01F33/301

IPC分类号：

B01J23/755 B01J23/888 B01J23/889 B01J32/00 B01J35/10 B01J37/00 B01J37/18

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日

法律状态

法律状态信息

共 50 条

[1]

触媒及び触媒を調製するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2019505363A ,2019-02-28

[2]

固体メタロセン系触媒系を調製するプロセス[ja] [P].

日本专利 :JP2017531081A ,2017-10-19

[3]

触媒活性物質を活性化するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2023507189A ,2023-02-21

[4]

触媒活性物質を活性化するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP7728764B2 ,2025-08-25

[5]

プロペン重合のための触媒成分、その調製方法及びそれを含有する触媒[ja] [P].

日本专利 :JP2017513998A ,2017-06-01

[6]

連続的で調節されていない複数の触媒工程プロセスを操作するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022548327A ,2022-11-17

[7]

エチルベンゼン脱水素触媒活性を維持するためのシステム及びプロセス[ja] [P].

日本专利 :JP2022529471A ,2022-06-22

[8]

エチルベンゼン脱水素触媒活性を維持するためのシステム及びプロセス[ja] [P].

日本专利 :JP7416824B2 ,2024-01-17

[9]

アンモニア分解触媒活性化のための装置及びプロセス[ja] [P].

SHAW ANDREW ;

JACOB SHELLEY ;

XIE KUI ;

SIMON CRAIG SALOWAY ;

DHAVAL DHONDU PATIL .

日本专利 :JP2025078037A ,2025-05-19

[10]

窒素酸化物を還元するための触媒[ja] [P].

日本专利 :JP2016503725A ,2016-02-08

← 1 2 3 4 5 →