窒化シリコン膜及びその製造方法、並びにその製造装置[ja]

被引：0

申请号：

JP20150550644

申请日：

2014-11-17

公开(公告)号：

JPWO2015079938A1

公开(公告)日：

2017-03-16

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/318

IPC分类号：

C23C16/42 C23C16/509 H01L21/31

代理机构：

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法律状态信息

共 50 条

[1]

シリコンの製造方法及び製造装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2011055650A1 ,2013-03-28

[2]

窒化ケイ素焼結体及びその製造方法、並びに回路基板及びその製造方法[ja] [P].

SUZUKI ATSUYA ;

UESHIMA MASAHISA ;

KOGA RYUJI ;

OKURA REIMA .

日本专利 :JP2025124397A ,2025-08-26

[3]

高強度鋼及びその製造方法、並びに鋼管及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016157856A1 ,2017-07-13

[4]

摺動部材並びにその製造方法及び製造装置[ja] [P].

日本专利 :JP2022126017A ,2022-08-30

[5]

窒化ガリウムの粉末及びその製造方法[ja] [P].

KUSUNOSE YOSHIRO ;

HARA SHINICHI ;

IIHAMA JUNYA ;

MESHIDA MASAMI .

日本专利 :JP2024177063A ,2024-12-19

[6]

電極及びその製造方法並びに再生電極の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019049834A1 ,2020-08-20

[7]

成形品及びその製造方法、並びにトナー含有物及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025145714A ,2025-10-03

[8]

高強度鋼及びその製造方法、並びに鋼管及びその鋼管の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016157857A1 ,2017-06-22

[9]

シリカ粒子及びその製造方法並びにシリカゾル[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015087965A1 ,2017-03-16

[10]

薄片状チタン酸及びその製造方法並びにその用途[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019159923A1 ,2021-02-25

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