光学異方性層及びその製造方法、光学異方性積層体、転写用複層物、偏光板、並びに画像表示装置[ja]

被引：0

申请号：

JP20190526741

申请日：

2018-06-04

公开(公告)号：

JPWO2019003812A1

公开(公告)日：

2020-04-30

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G02B5/30

IPC分类号：

B32B7/023 B32B7/06 B32B27/00 B32B27/30 G09F9/00 G09F9/30 H01L27/32 H01L51/50 H05B33/02

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

光学異方性層及びその製造方法、光学異方性積層体及びその製造方法、光学異方性転写体、偏光板、並びに画像表示装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019069855A1 ,2020-11-26

[2]

光学異方性層及びその製造方法、光学異方性積層体及びその製造方法、光学異方性転写体、偏光板、並びに画像表示装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017170455A1 ,2019-02-07

[3]

光学異方性層及びその製造方法、光学異方性積層体並びに円偏光板[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017110631A1 ,2018-10-11

[4]

重合性液晶組成物、光学異方性層、光学積層体、光学積層体の製造方法および画像表示装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018216806A1 ,2020-02-27

[5]

光学異方性層の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019240048A1 ,2021-06-10

[6]

液晶組成物、光学異方性層、光学積層体および画像表示装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018173647A1 ,2019-11-07

[7]

重合性液晶組成物、光学異方性膜、積層体、偏光板および画像表示装置[ja] [P].

KOBAYASHI TADAHIRO ;

NAKATA HIROKI .

日本专利 :JP2025076999A ,2025-05-16

[8]

パターン化光学異方性層、および、光学積層体[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018016549A1 ,2019-05-09

[9]

光吸収異方性膜、光学積層体および画像表示装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019131976A1 ,2021-01-14

[10]

光学異方性を有する積層体[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013154073A1 ,2015-12-17

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