アミン化合物を含有するインジウム電気めっき組成物及びインジウムを電気めっきする方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20170126349

申请日：

2017-06-28

公开(公告)号：

JP6427631B2

公开(公告)日：

2018-11-21

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IPC主分类号：

C25D3/54

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共 50 条

[1]

２−イミダゾリジンチオン化合物を含有するインジウム電気めっき組成物、及びインジウムを電気めっきする方法[ja] [P].

日本专利 :JP6427632B2 ,2018-11-21

[2]

１，１０−フェナントロリン化合物を含有するインジウム電気めっき組成物、及びインジウムを電気めっきする方法[ja] [P].

日本专利 :JP6427633B2 ,2018-11-21

[3]

アミン及びキノンの反応生成物の化合物を含有する銅電気めっき浴[ja] [P].

日本专利 :JP6672464B2 ,2020-03-25

[4]

アミン及びキノンの反応生成物の化合物を含有する銅電気めっき浴[ja] [P].

日本专利 :JP2018536080A ,2018-12-06

[5]

電気アルミニウムめっき液[ja] [P].

日本专利 :JPWO2012043129A1 ,2014-02-06

[6]

パラジウムめっき浴組成物および無電解パラジウムめっき方法[ja] [P].

日本专利 :JP2019500493A ,2019-01-10

[7]

インジウム化合物および該インジウム化合物を用いたインジウム含有膜の成膜方法[ja] [P].

日本专利 :JP7240903B2 ,2023-03-16

[8]

パラジウム無電解めっき用のめっき浴組成物およびパラジウムの無電解めっき方法[ja] [P].

日本专利 :JP2017538867A ,2017-12-28

[9]

電気めっき用光沢剤及びそれを含む電気めっき浴並びに金属で物品を電気めっきする方法[ja] [P].

KOJIMA KAZUHIRO ;

FUJITA RYOHEI ;

TAKASUKA RYOSUKE .

日本专利 :JP2024067618A ,2024-05-17

[10]

低融点な電気アルミニウムめっき用めっき液の調製方法、電気アルミニウムめっき用めっき液、アルミニウム箔の製造方法、および、電気アルミニウムめっき用めっき液の融点を低下させる方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013129479A1 ,2015-07-30

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